Defect and ion distribution studies in ion-implanted silicon / K. Semek (Simek), D. Jerzy, M. Mitura-Nowak, A. Lomygin
Язык: английский.Страна: .Тематика: труды учёных ТПУ | электронный ресурс Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайнНет реальных экземпляров для этой записи
Title screen
Для данного заглавия нет комментариев.
Личный кабинет оставить комментарий.