The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering
20181025a2018 k y0engy50 ba
- Title screen
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
magnetron sputtering systems
evaporation
self-sputtering
low-pressure magnetron sputtering
high purity coatings
coatings deposition
магнетронные распылительные системы
испарение
низкое давление
напыление
- Title screen
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
magnetron sputtering systems
evaporation
self-sputtering
low-pressure magnetron sputtering
high purity coatings
coatings deposition
магнетронные распылительные системы
испарение
низкое давление
напыление