The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target

20191119a2019 k y0engy50 ba

- Title screen


электронный ресурс
труды учёных ТПУ
magnetron sputtering systems
liquid-phase sputtering
evaporation
self-sustained sputtering
Cu films and coatings
Cu films electrical resistance
магнетронные распылительные системы
выпаривание
распыление
пленки
покрытия
электрическое сопротивление