A Cathode Unit for High-Dose Implantation of Semiconductor Materials (Запись № 231965)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 02668nla2a2200457 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231029210111.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\book\252995 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\book\252992 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20130207d2004 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | Россия |
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические | |
Кодированные данные о монографическом текстовом документе | y z 100zy |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drnn ---uucaa |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | A Cathode Unit for High-Dose Implantation of Semiconductor Materials |
-- | Electronic resource |
Первые сведения об ответственности | B. P. Gritsenko, V. V. Bespalov |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
225 1# - Серия | |
Основное заглавие серии | Beam and plasma sources |
230 ## - | |
-- | Electronic text data (1 file : 343 Kb) |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title from the title-page. |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: p. 50 (4 tit.)] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | The implantation of semiconductor materials in metals and alloys essentially extends the capabilities of modifying their superficial properties. However, the use of silicon or other semiconductor materials as a cathode in the existing designs of ion sources is complicated because of their low electric conductivity. The purpose of the given work was the development of a cathodic unit of an ion source where not only metals but also nonmetallic materials can be used as cathode materials to increase the stability of arc-firing and burning. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
336 ## - Примечание о виде электронного ресурса | |
Текст примечания | Text files |
337 ## - Примечание о системных требованиях (электронные ресурсы) | |
Текст примечания | Adobe Reader |
463 #1 - Уровень физической единицы | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\book\75459 |
Заглавие | 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows |
Сведения, относящиеся к заглавию | Tomsk, Russia, 25-29 July 2004 |
Первые сведения об ответственности | edited by S. Korovin, A. Ryabchikov |
Обозначение тома | [P. 49-50] |
Дата публикации | 2004 |
Сведения об объеме | 1 Multimedia CD-ROM |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | физика |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | плазма |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | полупроводниковые материалы |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | катодные узлы |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | ионные источники |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | высокодозная имплантация |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | катодные материалы |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
700 #1 - Имя лица – первичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Gricenko (Gritsenko) |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | B. P. |
Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of lightning engineering |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
Даты | 1949- |
Расширение инициалов личного имени | Boris Petrovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33056 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Bespalov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. V. |
Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of informatics and computer technology |
-- | Senior Lecturer of Tomsk Polytechnic University |
Даты | 1965- |
Расширение инициалов личного имени | Viktor Vladimirovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33055 |
801 #1 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20120118 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20161229 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/c/2004/C13/033.pdf |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 231965 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.