Langmuir probe measurement of the bismuth plasma plume formed by an extreme-ultraviolet pulsed laser (Запись № 644903)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02811nlm1a2200469 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040634.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\9987
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\7809
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20151203a2014 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Langmuir probe measurement of the bismuth plasma plume formed by an extreme-ultraviolet pulsed laser
Первые сведения об ответственности P. Pira, T. Burian, A. Kolpakova [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Properties of the plasma plume produced on a bismuth (Bi) target irradiated by a focused extreme-ultraviolet (XUV) capillary-discharge laser beam were investigated. Langmuir probes were used in both single- and double-probe arrangements to determine the electron temperature and the electron density, providing values of 1–3 eV and ~1013–1014 m?3, respectively. Although the temperatures seem to be comparable with values obtained in ablation plasmas produced by conventional, long-wavelength lasers, the density is significantly lower. This finding indicates that the desorption-like phenomena are responsible for the plume formation rather than the ablation processes. A very thin Bi film was prepared on an MgO substrate by pulsed XUV laser deposition. The non-uniform, sub-monolayer character of the deposited bismuth film confirms the Langmuir probe's observation of the desorption-like erosion induced by the XUV laser on the primary Bi target.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Journal of Physics D: Applied Physics
Дата публикации 1968-
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 47, iss. 40
Обозначение тома [405205]
Дата публикации 2014
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Pira
Часть имени, кроме начального элемента ввода P.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Burian
Часть имени, кроме начального элемента ввода T.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kolpakova
Часть имени, кроме начального элемента ввода A.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Tichy
Часть имени, кроме начального элемента ввода M.
Дополнения к именам, кроме дат chemist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1947-
Расширение инициалов личного имени Milan
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\35771
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kudrna
Часть имени, кроме начального элемента ввода P.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Danis
Часть имени, кроме начального элемента ввода S.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Juha
Часть имени, кроме начального элемента ввода L.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Lancok
Часть имени, кроме начального элемента ввода J.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Vysin
Часть имени, кроме начального элемента ввода L.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Civis
Часть имени, кроме начального элемента ввода S.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Zelinger
Часть имени, кроме начального элемента ввода Z.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kubat
Часть имени, кроме начального элемента ввода P.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Wild
Часть имени, кроме начального элемента ввода J.
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Физико-технический институт (ФТИ)
-- Кафедра технической физики (№ 23) (ТФ)
-- 52
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\18732
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20210616
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/47/40/405205
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 644903
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.