Langmuir probe measurement of the bismuth plasma plume formed by an extreme-ultraviolet pulsed laser (Запись № 644903)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 02811nlm1a2200469 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030040634.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\9987 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\network\7809 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20151203a2014 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Langmuir probe measurement of the bismuth plasma plume formed by an extreme-ultraviolet pulsed laser |
Первые сведения об ответственности | P. Pira, T. Burian, A. Kolpakova [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | Properties of the plasma plume produced on a bismuth (Bi) target irradiated by a focused extreme-ultraviolet (XUV) capillary-discharge laser beam were investigated. Langmuir probes were used in both single- and double-probe arrangements to determine the electron temperature and the electron density, providing values of 1–3 eV and ~1013–1014 m?3, respectively. Although the temperatures seem to be comparable with values obtained in ablation plasmas produced by conventional, long-wavelength lasers, the density is significantly lower. This finding indicates that the desorption-like phenomena are responsible for the plume formation rather than the ablation processes. A very thin Bi film was prepared on an MgO substrate by pulsed XUV laser deposition. The non-uniform, sub-monolayer character of the deposited bismuth film confirms the Langmuir probe's observation of the desorption-like erosion induced by the XUV laser on the primary Bi target. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Journal of Physics D: Applied Physics |
Дата публикации | 1968- |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 47, iss. 40 |
Обозначение тома | [405205] |
Дата публикации | 2014 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Pira |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Burian |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | T. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Kolpakova |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Tichy |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. |
Дополнения к именам, кроме дат | chemist |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1947- |
Расширение инициалов личного имени | Milan |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35771 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Kudrna |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Danis |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Juha |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | L. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Lancok |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | J. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Vysin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | L. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Civis |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Zelinger |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | Z. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Kubat |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Wild |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | J. |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
Структурное подразделение | Физико-технический институт (ФТИ) |
-- | Кафедра технической физики (№ 23) (ТФ) |
-- | 52 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\18732 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20210616 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/47/40/405205 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 644903 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.