Magnesium plasma diagnostics by heated probe and characterization of the Mg thin films deposited by thermionic vacuum arc technology (Запись № 644918)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 02942nlm1a2200385 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030040635.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\10002 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\9991 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20151204a2015 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 102 ## - Страна публикации или производства | |
| Страна публикации | |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Magnesium plasma diagnostics by heated probe and characterization of the Mg thin films deposited by thermionic vacuum arc technology |
| Первые сведения об ответственности | R. Vladoiu, A. Mandes, V. D. Balan [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | The aim of this paper is to report on magnesium plasma diagnostics and to investigate the properties of thin Mg films deposited on Si and glass substrates by using thermionic vacuum arc (TVA) technology. TVA is an original deposition method using a combination of anodic arc and powerful electron gun system (up to 600?W) for the growth of thin films from solid precursors under a vacuum of 10?6Torr. Due to the comparatively high deposition rate as well as comparatively high plasma potential?around 0.5?kV?plasma diagnostics were carried out by a heated probe that prevents layer deposition on the probe surface. The estimated value of electron density was in the order of 1.0??×??1016m?3 and the electron temperature varied between 4??×??104 and 1.2??×??105?K (corresponding to two different discharge conditions). The thin Mg films were investigated using SEM images and TEM analyses provided with HR-TEM and SAED facilities. According to the SAED patterns the structure of the films can be indexed as two forms: hexagonal structure for Mg and cubic structure for MgO; the peak value of grain size distribution was 91.29?nm in diameter for Mg TVA/Si and 61.06?nm for Mg TVA/Gl. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Plasma Sources Science and Technology |
| Дата публикации | 1992- |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 24, iss. 3 |
| Обозначение тома | [035008] |
| Дата публикации | 2015 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Vladoiu |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | R. |
| Расширение инициалов личного имени | Rodica |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Mandes |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
| Расширение инициалов личного имени | Aurelia |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Balan |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. D. |
| Расширение инициалов личного имени | Virginia Dinca |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Prodan |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | G. |
| Расширение инициалов личного имени | Gabriel |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Kudrna |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. |
| Расширение инициалов личного имени | Pavel |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Tichy |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. |
| Дополнения к именам, кроме дат | chemist |
| -- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| Даты | 1947- |
| Расширение инициалов личного имени | Milan |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35771 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
| Структурное подразделение | Физико-технический институт (ФТИ) |
| -- | Кафедра технической физики (№ 23) (ТФ) |
| -- | 52 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\18732 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20210616 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/24/3/035008 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 644918 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.