Plasma-cathode electron source based on a low-pressure arc discharge in the mode of the emission current enhancement (Запись № 645954)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03428nlm1a2200397 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030040710.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\11059 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20160205a2015 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Plasma-cathode electron source based on a low-pressure arc discharge in the mode of the emission current enhancement |
| Первые сведения об ответственности | T. V. Koval [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | In the electron beam source based on a plasma cathode with a grid-stabilized plasma emission boundary, the anode plasma significantly affects the limited parameters of the source and widely determines the main characteristics of the source. This paper describes a theoretical and experimental investigation of the discharge plasma generation and the significant increasing mode of the electron emission current in the plasma electron source based on a low-pressure arc discharge. The source works at a pressure of 0.02?0.05 Pa, an accelerating voltage of 10 kV, and a longitudinal magnetic field of 0.1 T. According to experiment and theory, plasma potential depends on the electric field that penetrates from the accelerating gap of anode plasma through the grid meshes, on the discharge current, gas pressure, grid geometric transparency, and on the gas type. It is shown that the basic mechanisms corresponding to the discharge current enhancement and emission current are associated with the secondary ion-electron emission of electrons in the plasma cathode and transport channel on the grid electrode, the presence of positive feedback between the plasma cathode generation area and electron beam transport channel. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 19, iss. 1 |
| Обозначение тома | [P. 19-27] |
| Дата публикации | 2015 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронные пучки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | плазменные источники |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электроны |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | токи |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | эмиссии |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Koval |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | T. V. |
| Дополнения к именам, кроме дат | mathematician, physicist |
| -- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| Даты | 1953- |
| Расширение инициалов личного имени | Tamara Vasilievna |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34227 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Devyatkov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. N. |
| Расширение инициалов личного имени | Vladimir Nikolaevich |
| 701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Nguyen Bao Khyng |
| Дополнения к именам, кроме дат | Vietnamese specialist in the field of Informatics and computer engineering |
| -- | assistant Professor of Tomsk Polytechnic University |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35433 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Uglov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. V. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Physicist |
| -- | Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| Даты | 1954- |
| Расширение инициалов личного имени | Vladimir Vasilievich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36737 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
| Структурное подразделение | Институт кибернетики (ИК) |
| -- | Кафедра прикладной математики (ПМ) |
| -- | 130 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\18700 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20191212 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015733 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 645954 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.