The influence of the deposition parameters on the properties of an rf-magnetron-deposited nanostructured calcium phosphate coating and a possible growth mechanism (Запись № 647078)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02783nlm1a2200373 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040749.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\12215
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160324a2011 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие The influence of the deposition parameters on the properties of an rf-magnetron-deposited nanostructured calcium phosphate coating and a possible growth mechanism
Первые сведения об ответственности R. A. Surmenev [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 51 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The deposition of a biocompatible calcium phosphate coating on the surface of materials for biomedical implants by rf-magnetron sputtering is reported. The deposition parameters to prepare either stoichiometric crystalline hydroxyapatite or amorphous calcium phosphate coating with a molar Ca/P ratio from 1.53 to 3.88 were established. Crystalline hydroxyapatite coating with a Ca/P ratio of 1.60 ± 0.07 can be deposited if the rf-power density is 0.49 W cm­2 and if the samples are arranged within the area of the target erosion zone. A thorough investigation of the influence of rf-power, DC-bias on the substrate, deposition time on the properties of the calcium phosphate coating allowed to formulate a mechanism for the film growth.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Surface and Coatings Technology
Сведения, относящиеся к заглавию Scientific Journal
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 205, iss. 12
Обозначение тома [P. 3600-3606]
Дата публикации 2011
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Surmenev
Часть имени, кроме начального элемента ввода R. A.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Associate Professor of Tomsk Polytechnic University, Senior researcher, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1982-
Расширение инициалов личного имени Roman Anatolievich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31885
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Surmeneva (Ryabtseva)
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. A.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of material science
-- engineer-researcher of Tomsk Polytechnic University, Associate Scientist
Даты 1984-
Расширение инициалов личного имени Maria Alexandrovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31894
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Evdokimov
Часть имени, кроме начального элемента ввода K. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Senior Lecturer of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1976-
Расширение инициалов личного имени Kirill Evgenievich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31791
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Pichugin
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. F.
Дополнения к именам, кроме дат Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
-- Physicist
Даты 1944-
Расширение инициалов личного имени Vladimir Fyodorovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\30933
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Thorsten
Часть имени, кроме начального элемента ввода P.
Расширение инициалов личного имени Peitsch
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Epple
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. K.
Расширение инициалов личного имени Mattias Kristian
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20161215
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2010.12.039
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 647078
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.