Wettability of Thin Silicate-Containing Hydroxyapatite Films Formed by RF-Magnetron Sputtering (Запись № 647458)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03889nlm1a2200517 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040802.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\12598
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\12594
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160411a2014 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
-- eng
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Wettability of Thin Silicate-Containing Hydroxyapatite Films Formed by RF-Magnetron Sputtering
Первые сведения об ответственности S. N. Gorodzha [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 23 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Using the methods of electron and atomic force microscopy, X-ray structural analysis and measurements of the wetting angle, the features of morphology, structure, contact angle and free surface energy of silicon-containing calcium-phosphate coatings formed on the substrates made from titanium VT1-0 and stainless steel 12Cr18Ni10Ti are investigated. It is shown that the coating - substrate system possesses bimodal roughness formed by the substrate microrelief and coating nanostructure, whose principal crystalline phase is represented by silicon-substituted hydroxiapatite with the size of the coherent scattering region (CSR) 18-26 nm. It is found out that the formation of a nanostructured coating on the surface of rough substrates makes them hydrophilic. The limiting angle of water wetting for the coatings formed on titanium and steel acquires the values in the following ranges: 90-92 and 101-104°, respectively, and decreases with time.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Russian Physics Journal
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 56, iss. 10
Обозначение тома [P. 1163-1169]
Дата публикации 2014
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин physical-chemical properties
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин RF-magnetron sputtering
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин физико-химические свойства
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин ВЧ-магнетронное распыление
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Gorodzha
Часть имени, кроме начального элемента ввода S. N.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- research engineer of Tomsk Polytechnic University
Даты 1989-
Расширение инициалов личного имени Svetlana Nikolaevna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36022
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Surmeneva (Ryabtseva)
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. A.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of material science
-- engineer-researcher of Tomsk Polytechnic University, Associate Scientist
Даты 1984-
Расширение инициалов личного имени Maria Alexandrovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31894
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Surmenev
Часть имени, кроме начального элемента ввода R. A.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Associate Professor of Tomsk Polytechnic University, Senior researcher, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1982-
Расширение инициалов личного имени Roman Anatolievich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31885
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Gribennikov
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. V.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Pichugin
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. F.
Дополнения к именам, кроме дат Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
-- Physicist
Даты 1944-
Расширение инициалов личного имени Vladimir Fyodorovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\30933
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Sharonova
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. A.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- laboratory assistant of Tomsk Polytechnic University
Даты 1990-
Расширение инициалов личного имени Anna Aleksandrovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34746
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Pustovalova
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. A.
Дополнения к именам, кроме дат biophysicist
-- engineer of Tomsk Polytechnic University
Даты 1989-
Расширение инициалов личного имени Alla Aleksandrovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34214
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Prymack
Часть имени, кроме начального элемента ввода O.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Epple
Часть имени, кроме начального элемента ввода M.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Wittmar
Часть имени, кроме начального элемента ввода A.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Ulbricht
Часть имени, кроме начального элемента ввода M.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Gogolinskii
Часть имени, кроме начального элемента ввода K. V.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kravchuk
Часть имени, кроме начального элемента ввода K. S.
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Физико-технический институт (ФТИ)
-- Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
-- 138
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\18726
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20161215
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1007/s11182-014-0157-2
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 647458
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.