Cross-sectional TEM analysis of structural phase states in TiNi alloy treated by a low-energy high-current pulsed electron beam (Запись № 648992)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03429nlm1a2200397 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040856.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\14151
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\12606
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160614a2015 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Cross-sectional TEM analysis of structural phase states in TiNi alloy treated by a low-energy high-current pulsed electron beam
Первые сведения об ответственности A. A. Neiman [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: p. 326 (40 tit.)]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания This study investigated the effect of the substrate morphology introduced by various substrate preparation techniques, namely acid etching (AE) and pulsed electron beam (PEB) treatments, on the CaP film morphology and mechanical properties. The morphology, nanohardness, and Young's modulus of the CaP coating deposited via radio-frequency (RF) magnetron sputtering were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), atomic force microscope (AFM), scanning electron microscopy and nanoindentation studies. The Ca/P ratios of the CaP coating deposited via RF magnetron sputtering onto titanium substrates treated using AE and PEB according to XPS were 1.73 ± 0.03 and 1.72 ± 0.04, respectively, which is close to the Ca/P ratio of 1.67 typical for stoichiometric hydroxyapatite (HA). The AFM experiments and nanoindentation studies revealed significant differences in the morphology and mechanical responses of the CaP films deposited onto acid-etched titanium substrates treated with PEB. Deposition of the CaP coating onto the acid-etched surface resulted in a rough surface with the presence of an island-like morphology. The CaP coating onto a smooth titanium substrate treated by PEB exhibited grains with irregular shapes and decreased size. The nanoindentation hardness and the Young's modulus of the HA coating deposited onto titanium treated by the PEB treatment were determined to be 7.0 ± 0.3 and 124 ± 3 GPa, respectively, which are significantly higher than those of the CaP coating on the acid-etched titanium substrates. Moreover, the elastic strain to failure (H/E), the plastic deformation resistance (H3/E2), and the percent elastic recovery %R of the HA coating on titanium after surface irradiation with an electron energy density of 15 J·cm- 2 were determined to increase by ~ 23%, ~ 70% and ~ 53%, respectively, compared to the CaP coating on acid-etched titanium.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Applied Surface Science
Дата публикации 1977-
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 327, № 1
Обозначение тома [P. 321-326]
Дата публикации 2015
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный пучок
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин сильноточные импульсы
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Neiman
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. A.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Meisner
Часть имени, кроме начального элемента ввода L. L.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Lotkov
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. I.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Koval
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. N.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electronics
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Nikolay Nikolaevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34748
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Semin
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. O.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Teresov
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. D.
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20200828
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2014.11.173
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 648992
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.