Flexible antibacterial Zr-Cu-N thin films resistant to cracking (Запись № 649150)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03275nlm1a2200373 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040901.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\14311
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\14301
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160622a2016 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Flexible antibacterial Zr-Cu-N thin films resistant to cracking
Первые сведения об ответственности Y. Musil [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 40 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания This study investigates how the Cu concentration in Zr-Cu-N films affects the films' antibacterial capacity and mechanical properties. Zr-Cu-N films were prepared by reactive magnetron sputtering from composed Zr/Cu targets using a dual magnetron in an Ar + N2 mixture. The antibacterial capacity of Zr-Cu-N films was tested on Escherichia coli (E. coli) bacteria. The mechanical properties of Zr-Cu-N filmswere determined from the load vs. displacement curves measured using a Fisherscope H 100microhardness tester. The antibacterial capacity was modulated by the amount of Cu added to the Zr-Cu-N film. The mechanical properties were varied based on the energy Ei delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that it is possible to form Zr-Cu-N films with Cu concentrations ≥10 at. % that simultaneously exhibit (1) 100% killing efficiency Ek for E. colibacteria on their surfaces, and (2) (1) high hardness H of about 25 GPa, (2) high ratio H/E* ≥ 0.1, (3) high elastic recovery We ≥ 60% and (4) compressive macrostress (σ < 0). The Zr-Cu-N films with these parameters are flexible/antibacterial filmsthat exhibit enhanced resistance to cracking. This enhanced resistance was tested by (1) bending the Mo and Ti strip coated by sputtered Zr-Cu-N films (bending test) and (2) loading the surface of the Zr-Cu-Nsputtered on a Si substrate by a diamond indenter at high loads up to 1 N (indentation test). Physical, mechanical, and antibacterial properties of Zr-Cu-N films are described in detail. In summary, it can be concluded that Zr-Cu-N is a promising new material for creating flexible antibacterial coatings on contact surfaces.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Journal of Vacuum Science and Technology A
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 34, iss. 2
Обозначение тома [7 p.]
Дата публикации 2015
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Musil
Часть имени, кроме начального элемента ввода Y.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1934-
Расширение инициалов личного имени Yindrikh
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36957
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Zitek
Часть имени, кроме начального элемента ввода M.
Расширение инициалов личного имени Michal
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Fajfrlik
Часть имени, кроме начального элемента ввода K.
Расширение инициалов личного имени Karel
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Cerstvy
Часть имени, кроме начального элемента ввода R.
Расширение инициалов личного имени Radomir
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Институт физики высоких технологий (ИФВТ)
-- Лаборатория № 1
-- 6378
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\19035
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20160622
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1116/1.4937727
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 649150
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.