Flexible antibacterial Zr-Cu-N thin films resistant to cracking (Запись № 649150)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 03275nlm1a2200373 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030040901.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\14311 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\network\14301 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20160622a2016 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Flexible antibacterial Zr-Cu-N thin films resistant to cracking |
Первые сведения об ответственности | Y. Musil [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 40 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | This study investigates how the Cu concentration in Zr-Cu-N films affects the films' antibacterial capacity and mechanical properties. Zr-Cu-N films were prepared by reactive magnetron sputtering from composed Zr/Cu targets using a dual magnetron in an Ar + N2 mixture. The antibacterial capacity of Zr-Cu-N films was tested on Escherichia coli (E. coli) bacteria. The mechanical properties of Zr-Cu-N filmswere determined from the load vs. displacement curves measured using a Fisherscope H 100microhardness tester. The antibacterial capacity was modulated by the amount of Cu added to the Zr-Cu-N film. The mechanical properties were varied based on the energy Ei delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that it is possible to form Zr-Cu-N films with Cu concentrations ≥10 at. % that simultaneously exhibit (1) 100% killing efficiency Ek for E. colibacteria on their surfaces, and (2) (1) high hardness H of about 25 GPa, (2) high ratio H/E* ≥ 0.1, (3) high elastic recovery We ≥ 60% and (4) compressive macrostress (σ < 0). The Zr-Cu-N films with these parameters are flexible/antibacterial filmsthat exhibit enhanced resistance to cracking. This enhanced resistance was tested by (1) bending the Mo and Ti strip coated by sputtered Zr-Cu-N films (bending test) and (2) loading the surface of the Zr-Cu-Nsputtered on a Si substrate by a diamond indenter at high loads up to 1 N (indentation test). Physical, mechanical, and antibacterial properties of Zr-Cu-N films are described in detail. In summary, it can be concluded that Zr-Cu-N is a promising new material for creating flexible antibacterial coatings on contact surfaces. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Journal of Vacuum Science and Technology A |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 34, iss. 2 |
Обозначение тома | [7 p.] |
Дата публикации | 2015 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Musil |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | Y. |
Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
-- | Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1934- |
Расширение инициалов личного имени | Yindrikh |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36957 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Zitek |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. |
Расширение инициалов личного имени | Michal |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Fajfrlik |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | K. |
Расширение инициалов личного имени | Karel |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Cerstvy |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | R. |
Расширение инициалов личного имени | Radomir |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
Структурное подразделение | Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |
-- | Лаборатория № 1 |
-- | 6378 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\19035 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20160622 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.1116/1.4937727 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 649150 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.