Use of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxes (Запись № 652984)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02964nla2a2200445 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030041203.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\18355
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\18351
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20170202a2017 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Use of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxes
Первые сведения об ответственности D. V. Zaitsev [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 10 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Intensively evaporating liquid films shear-driven in a mini- or micro-channel under the action of cocurrent gas flow are promising for the use in modern cooling systems of semiconductor devices. In this work, we investigated the influence of liquid and gas flow rates on the critical heat flux in a locally heated film of water, moving under the action of air flow in a mini-channel. In experiments a record value of critical heat flux of 870 W/cm{2} was reached. Heat spreading into the substrate and heat losses to the atmosphere in total do not exceed 25 % at heat fluxes above 400 W/cm{2} . A comparison with the critical heat flux for water flow boiling in the channel shows that, for shear-driven liquid films the critical heat flux is almost an order of magnitude higher.
461 #0 - Уровень набора
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\4526
Заглавие MATEC Web of Conferences
463 #0 - Уровень физической единицы
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\18128
Заглавие Vol. 92 : Thermophysical Basis of Energy Technologies (TBET-2016)
Сведения, относящиеся к заглавию Proceedings of the Conference, October 26-28, 2016, Tomsk, Russia
Первые сведения об ответственности National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. G. V. Kuznetsov ; P. A. Strizhak ; A. O. Zhdanova
Обозначение тома [01037, 4 p.]
Дата публикации 2017
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин тонкие пленки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин жидкости
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин потоки газов
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин тепловые потоки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин охлаждение
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин полупроводниковые приборы
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Zaitsev
Часть имени, кроме начального элемента ввода D. V.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- researcher of Tomsk Polytechnic University, candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1974-
Расширение инициалов личного имени Dmitry Valerievich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36024
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Tkachenko
Часть имени, кроме начального элемента ввода E.
Расширение инициалов личного имени Egor
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Orlik
Часть имени, кроме начального элемента ввода E.
Расширение инициалов личного имени Evgeny
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kabov
Часть имени, кроме начального элемента ввода O.
Расширение инициалов личного имени Oleg
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Энергетический институт (ЭНИН)
-- Кафедра атомных и тепловых электростанций (АТЭС)
-- 118
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\18683
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20170213
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1051/matecconf/20179201037
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36692
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 652984
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.