Size effect in AlN/SiN multilayered films irradiated with helium and argon ions (Запись № 658132)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 04310nlm1a2200541 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030041539.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\25253 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20180522a2018 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Size effect in AlN/SiN multilayered films irradiated with helium and argon ions |
Первые сведения об ответственности | V. V. Uglov [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 15 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | The results of microstructure and phase composition of the AlN/SiNx multilayered films after the irradiation with helium and argon ions are presented. The multilayered films with alternating nanocrystalline (nc-AlN) and amorphous (a-SiNx) phases with thicknesses from 2 to 10?nm were obtained by reactive magnetron sputtering. X-ray diffraction results showed the dependence of the crystal lattice parameters of the nc-AlN phase on the thickness which is explained by size affect. After the irradiation with helium (30?keV) and argon (180?keV) ions the radiation-induced point defects as well as their clusters are produced in the films and mainly localized in the amorphous a-SiNx layers. It is of the consequence of enhanced implanted ions migration towards the a-SiNx layers and bubbles formation, as revealed by high-resolution transmission electron microscopy. The average size of the bubbles is 2.0–2.4?nm and grows up to 4–5?nm after the post-irradiation vacuum (800?°C) annealing. The amorphous a-SiNx layers are believed to serve as sinks for radiation-induced defects. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 435 |
Обозначение тома | [8 p.] |
Дата публикации | 2018 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | многослойные пленки |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | нитрид алюминия |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | ионы гелия |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | ионы аргона |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | имплантация |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | аморфные слои |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | радиационные дефекты |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | пузыри |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | отжиг |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Uglov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. V. |
Дополнения к именам, кроме дат | Physicist |
-- | Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1954- |
Расширение инициалов личного имени | Vladimir Vasilievich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36737 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Kvasov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | N. T. |
Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
-- | leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1949- |
Расширение инициалов личного имени | Nikolay Trafimovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36768 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Remnev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | G. E. |
Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
Даты | 1948- |
Расширение инициалов личного имени | Gennady Efimovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\31500 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Shimanskii |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. I. |
Дополнения к именам, кроме дат | Physicist |
-- | Associate Scientist of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences |
Даты | 1986- |
Расширение инициалов личного имени | Vitali Igorevich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36738 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Korenevsky |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | E. L. |
Расширение инициалов личного имени | Egor Leonidovich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Zlotsky |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. V. |
Расширение инициалов личного имени | Sergey Vladimirovich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Abadias |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | G. |
Расширение инициалов личного имени | Gregory |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | O'Connell |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | J. H. |
Расширение инициалов личного имени | Jacques Herman |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | van Vuuren |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. J. |
Расширение инициалов личного имени | Arno Janse |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов |
Идентифицирующий признак | (2017- ) |
-- | 8118 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23551 |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Инженерная школа новых производственных технологий |
-- | Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий" |
-- | 7882 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23502 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20190409 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1016/j.nimb.2018.01.012 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 658132 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.