Size effect in AlN/SiN multilayered films irradiated with helium and argon ions (Запись № 658132)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 04310nlm1a2200541 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030041539.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\25253
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20180522a2018 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Size effect in AlN/SiN multilayered films irradiated with helium and argon ions
Первые сведения об ответственности V. V. Uglov [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 15 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The results of microstructure and phase composition of the AlN/SiNx multilayered films after the irradiation with helium and argon ions are presented. The multilayered films with alternating nanocrystalline (nc-AlN) and amorphous (a-SiNx) phases with thicknesses from 2 to 10?nm were obtained by reactive magnetron sputtering. X-ray diffraction results showed the dependence of the crystal lattice parameters of the nc-AlN phase on the thickness which is explained by size affect. After the irradiation with helium (30?keV) and argon (180?keV) ions the radiation-induced point defects as well as their clusters are produced in the films and mainly localized in the amorphous a-SiNx layers. It is of the consequence of enhanced implanted ions migration towards the a-SiNx layers and bubbles formation, as revealed by high-resolution transmission electron microscopy. The average size of the bubbles is 2.0–2.4?nm and grows up to 4–5?nm after the post-irradiation vacuum (800?°C) annealing. The amorphous a-SiNx layers are believed to serve as sinks for radiation-induced defects.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 435
Обозначение тома [8 p.]
Дата публикации 2018
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин многослойные пленки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин нитрид алюминия
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин ионы гелия
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин ионы аргона
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин имплантация
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин аморфные слои
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин радиационные дефекты
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин пузыри
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин отжиг
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Uglov
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. V.
Дополнения к именам, кроме дат Physicist
-- Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1954-
Расширение инициалов личного имени Vladimir Vasilievich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36737
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kvasov
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. T.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1949-
Расширение инициалов личного имени Nikolay Trafimovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36768
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Remnev
Часть имени, кроме начального элемента ввода G. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Gennady Efimovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31500
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Shimanskii
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. I.
Дополнения к именам, кроме дат Physicist
-- Associate Scientist of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1986-
Расширение инициалов личного имени Vitali Igorevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36738
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Korenevsky
Часть имени, кроме начального элемента ввода E. L.
Расширение инициалов личного имени Egor Leonidovich
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Zlotsky
Часть имени, кроме начального элемента ввода S. V.
Расширение инициалов личного имени Sergey Vladimirovich
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Abadias
Часть имени, кроме начального элемента ввода G.
Расширение инициалов личного имени Gregory
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода O'Connell
Часть имени, кроме начального элемента ввода J. H.
Расширение инициалов личного имени Jacques Herman
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода van Vuuren
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. J.
Расширение инициалов личного имени Arno Janse
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
Идентифицирующий признак (2017- )
-- 8118
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23551
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Инженерная школа новых производственных технологий
-- Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
-- 7882
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23502
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20190409
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1016/j.nimb.2018.01.012
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 658132
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.