Thermal stability and oxidation resistance of ZrSiN nanocomposite and ZrN/SiNx multilayered coatings: A comparative study (Запись № 659099)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03908nlm1a2200469 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030041617.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\27475 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20190115a2017 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Thermal stability and oxidation resistance of ZrSiN nanocomposite and ZrN/SiNx multilayered coatings: A comparative study |
| Первые сведения об ответственности | I. A. Saladukhin [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 56 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | In the present work we comparatively study the thermal stability and oxidation resistance of ~ 300 nm thick Zr-Si-N coatings with either 2D or 3D interface geometry: 1) Zr-Si-N nanocomposites and 2) ZrN/SiNx nanoscale multilayers. Both types of films were prepared by reactive magnetron sputter-deposition on Si wafers under Ar + N2 plasma discharges. Zr-Si-N films were deposited by co-sputtering from Zr and Si targets at substrate temperature Tdep of 600 °C, with Si content ranging from 0 to 22.1 at.%, while ZrN/SiNx multilayers with ZrN (resp. SiNx) layer thickness varying from 2 to 40 nm (resp. 0.4 to 20 nm) were synthesized by sequential sputtering from elemental Zr and Si3N4 targets at Tdep = 300 °C. According to transmission electron microscopy (TEM) and X-ray diffraction (XRD) analysis the microstructure of Zr-Si-N films changes from dual-phase nanocomposite structure, consisting of ZrN nanograins (4–7 nm) surrounded by an amorphous tissue, towards X-ray amorphous with increasing Si content. The multilayered films consist of nanocrystalline (002)-oriented ZrN and amorphous SiNx layers. The structural evolution has been investigated by XRD after vacuum annealing at 1000 °C, while the oxidation resistance under air was studied using in situ XRD in the temperature range from 400 to 950 °C, as well as by scanning electron microscopy (SEM) and wavelength dispersive X-ray spectrometry (WDS) after air annealing procedure. While the reference ZrN film starts to oxidize at Tox. = 550 °C, a much higher oxidation resistance is found for multilayered films, till Tox. = 860–950 °C for ZrN/SiNx coatings with the elementary layer thickness ratio of 5 nm/10 nm, 3 nm/5 nm and 2 nm/5 nm. ZrSiN nanocomposites exhibit an improved oxidation resistance with increasing Si content compared to binary ZrN compound, but their stability is worst comparatively to the multilayers case. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Surface and Coatings Technology |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 332 |
| Обозначение тома | [P. 428-439] |
| Дата публикации | 2017 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | multilayer |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | nanocomposite |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | oxidation |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | reactive magnetron sputter-deposition |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | hard coatingsZr-Si-N |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | нанокомпозиты |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | оксидирование |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | магнетронное напыление |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | твердые покрытия |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Saladukhin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. A. |
| Расширение инициалов личного имени | Igor |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Abadias |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | G. |
| Расширение инициалов личного имени | Gregor |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Uglov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. R. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | senior research fellow at Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1958- |
| Расширение инициалов личного имени | Sergey Romanovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\31533 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Michel |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
| Расширение инициалов личного имени | Anny |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Janse Van Vuuren |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | А. |
| Расширение инициалов личного имени | Arno |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов |
| Идентифицирующий признак | (2017- ) |
| -- | 8118 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23551 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20190115 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.08.076 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 659099 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.