High intensity, macroparticle-free, aluminum ion beam formation (Запись № 659309)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 04107nlm1a2200385 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030041624.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\27813 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20190204a2018 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | High intensity, macroparticle-free, aluminum ion beam formation |
Первые сведения об ответственности | A. I. Ryabchikov [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 37 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | We describe a vacuum arc based system for the generation of repetitively pulsed metal ion beams with very high current density, and the results of experimental investigations of the performance of this new system, as well as the results of numerical simulations. Our approach uses a DC vacuum arc as a metal plasma source, and the beam-forming technique is a hybrid method using features of conventional gridded ion extraction together with some plasma immersion attributes. A hemispherical grid is located some distance from the plasma source so as to intercept part of the metal plasma flow and repetitively pulse-biased to the requisite ion beam energy. Ions are accelerated in the high voltage sheath that forms in front of the biased grid and focused into a converging beam that can be of a very high current density. Space charge neutralization is provided by cold plasma that streams through the grid during the bias-off part of the cycle. At the same time, macroparticles in the vacuum arc plasma are blocked from viewing the target by a metal disk positioned centrally on the hemispherical grid. In the work outlined here, we formed 5?keV aluminum ion beams with a current density up to 470?mA/cm2 at a negative bias amplitude of 3?kV and a pulse repetition rate of 105 pulse per second. The experiments and numerical simulations demonstrate the formation of high-intensity macroparticle-free aluminum ion beams for material surface modification and other possible applications. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Journal of Applied Physics |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 123, iss. 23 |
Обозначение тома | [233301, 11 p.] |
Дата публикации | 2018 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
-- | physicist |
Даты | 1950- |
Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Ilyich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30912 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Shevelev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. E. |
Дополнения к именам, кроме дат | Physicist |
-- | Engineer of Tomsk Polytechnic University |
Даты | 1990- |
Расширение инициалов личного имени | Aleksey Eduardovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36832 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Sivin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. O. |
Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
-- | Senior researcher of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
Даты | 1978- |
Расширение инициалов личного имени | Denis Olegovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34240 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Koval |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | T. V. |
Дополнения к именам, кроме дат | mathematician, physicist |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1953- |
Расширение инициалов личного имени | Tamara Vasilievna |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34227 |
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Chan My Kim An |
Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of informatics and computer technology |
-- | Research Engineer of Tomsk Polytechnic University |
Даты | 1988- |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\42959 |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
-- | Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов |
-- | 7868 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23698 |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Инженерная школа информационных технологий и робототехники |
-- | Отделение информационных технологий |
-- | 7951 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23515 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20190204 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1063/1.5034082 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 659309 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.