Deposition of cubic tungsten carbide coating on metal substrates at sputtering of electric discharge plasma (Запись № 661689)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 04083nlm2a2200445 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030041755.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\32421
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\32418
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20200129a2019 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Deposition of cubic tungsten carbide coating on metal substrates at sputtering of electric discharge plasma
Первые сведения об ответственности A. A. Sivkov [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 19 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Hexagonal modifications of tungsten carbide are widely used in various metalworking products and tools. However, the cubic tungsten carbide phase is still poorly understood due to significant difficulties in its synthesis, both in the form of powdered products, and in bulk form. This leads to the impossibility of conducting direct studies of its physical and mechanical properties. This paper shows the opportunity to obtain bulk coatings with a thickness of up to 70 µm, mainly consisting of cubic tungsten carbide using the plasma-dynamic method. The coating formation occurs when spraying the electric discharge tungsten-carbon containing plasma on a metal substrate made of a titanium and aluminum alloy due to the high rate of sputtering and crystallization. This allows synthesizing a stable coating adherent to the substrate based on cubic tungsten carbide with a purity of its yield of at least 85 wt.%.
461 #0 - Уровень набора
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\3526
Заглавие Journal of Physics: Conference Series
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Сведения, относящиеся к заглавию 14th International Conference, 15–21 September 2019, Tomsk, Russia
-- [proceedings]
Обозначение тома [012133, 6 p.]
Дата публикации 2019
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин осаждение
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин кубический карбид вольфрама
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин распыление
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электроразрядная плазма
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Sivkov
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. A.
Дополнения к именам, кроме дат Specialist in the field of electric power engineering
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1951-
Расширение инициалов личного имени Aleksandr Anatolyevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\32273
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Shanenkov
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. I.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electric power engineering
-- Assistant of the Department of Tomsk Polytechnic University
Даты 1990-
Расширение инициалов личного имени Ivan Igorevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\32880
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Ivashutenko
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. S.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electrical engineering
-- Head of the Department of the Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences
Даты 1981-
Расширение инициалов личного имени Alexander Sergeevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33076
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Nikitin
Часть имени, кроме начального элемента ввода D. S.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electric power engineering
-- Assistant of the Department of Tomsk Polytechnic University
Даты 1991-
Расширение инициалов личного имени Dmitry Sergeevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\35633
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Shanenkova
Часть имени, кроме начального элемента ввода Yu. L.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electric power engineering
-- Assistant of the Department of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences
Даты 1991-
Расширение инициалов личного имени Yuliya Leonidovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34119
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Rakhmatullin
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. A.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electric power engineering
-- Assistant of Tomsk Polytechnic University
Даты 1986-
Расширение инициалов личного имени Ilyas Aminovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33004
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Инженерная школа новых производственных технологий
-- Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
-- 7882
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23502
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20200218
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012133
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57828
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 661689
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.