Thermionic Vacuum Arc-A Versatile Technology for Thin Film Deposition and Its Applications (Запись № 665023)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 02810nlm1a2200469 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030041949.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\36222 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\36196 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20210623a2020 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Thermionic Vacuum Arc-A Versatile Technology for Thin Film Deposition and Its Applications |
| Первые сведения об ответственности | R. Vladoiu, M. Tichy, A. Mandes [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 253 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | This review summarizes the more-than-25-years of development of the so-called thermionic vacuum arc (TVA). TVA is an anodic arc discharge in vapors of the material to be deposited; the energy for its melting is delivered by means of a focused electron beam. The resulting material ions fall at the substrate where they form a well-adhesive layer; the ion energy is controllable. The deposited layers are, as a rule, free from droplets typical for cathodic arc deposition systems and the thermal stress of the substrates being coated is low. TVA is especially suitable for processing refractory metals, e.g., carbon or tungsten, however, in the course of time, various useful applications of this system originated. They include layers for fusion application, hard coatings, low-friction coatings, biomedical-applicable films, materials for optoelectronics, and for solid-state batteries. Apart from the diagnostic of the film properties, also the diagnostic of the TVA discharge itself as well as of the by TVA generated plasma was performed. The research and application of the TVA proceeds in broad international collaboration. At present, the TVA technology has found its firm place among the different procedures for thin film deposition. |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Coatings |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 10, iss. 3 |
| Обозначение тома | [211, 48 p.] |
| Дата публикации | 2020 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | thermionic vacuum arc |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | thin film deposition |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | fusion |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | refractory materials |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | coatings |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | вакуумные дуги |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | осаждение |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | тонкие пленки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | огнеупорные материалы |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | покрытия |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Vladoiu |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | R. |
| Расширение инициалов личного имени | Rodica |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Tichy |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. |
| Дополнения к именам, кроме дат | chemist |
| -- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| Даты | 1947- |
| Расширение инициалов личного имени | Milan |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35771 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Mandes |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
| Расширение инициалов личного имени | Aurelia |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Dinca |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. |
| Расширение инициалов личного имени | Virginia |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Kudrn |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. |
| Расширение инициалов личного имени | Pavel |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20210623 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.3390/coatings10030211 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 665023 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.