Features of the Formation of Ultralow Energy High-Intensity Metal and Gaseous Ion Beams (Запись № 667108)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03659nlm1a2200457 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030042059.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\38312 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20220222a2021 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Features of the Formation of Ultralow Energy High-Intensity Metal and Gaseous Ion Beams |
| Первые сведения об ответственности | A. I. Ryabchikov, S. V. Dektyarev, O. S. Korneva, D. O. Sivin |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 51 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | This article studies the features and patterns of the formation of high-intensity beams of metal and gaseous ions of low and ultralow energy from dc vacuum arc and gas-discharge plasma. It presents the results of repetitively pulsed plasma immersion extraction of aluminum, titanium, and nitrogen ions from the plasma followed by the formation and transport of ion beam under conditions of its ballistic focusing. This article presents the experimental data on the influence of the grid focusing electrode cell sizes of 150 and 500 ?m , the bias potential amplitude from 0.1 to 2 kV, the conditions for neutralizing the space charge of the beam during preliminary plasma injection into drift space and when using an additional thermoelectron source on the transport and focusing of ion beams. Here, it discusses the effect of the characteristic dimensions of the fine-structured grid and plasma parameters at ultralow bias potential amplitudes and the presence of significant initial energy in ions on the ion beam focusing. It was found that at bias potential amplitudes of 0.6 kV, it is possible to form repetitively pulsed ion beams with high current density reaching 170 mA/cm 2 . The obtaining of such beams opens up the possibility of implementing the method of high-intensity ion implantation under conditions of multiple decreases in the irradiated surface sputtering. |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | IEEE Transactions on Plasma Science |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 49, iss. 9 |
| Обозначение тома | [P. 2559-2566] |
| Дата публикации | 2021 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ions |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ion beams |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | electric potential |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | electrodes |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | particle beams |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | focusing |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | metals |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ионы |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ионные пучки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электроды |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электрический потенциал |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | фокусировка |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | металлы |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| -- | physicist |
| Даты | 1950- |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Ilyich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30912 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Dektyarev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. V. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | design engineer of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1957- |
| Расширение инициалов личного имени | Sergey Valentinovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35672 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Korneva |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | O. S. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | engineer of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1988- |
| Расширение инициалов личного имени | Olga Sergeevna |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\37178 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sivin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. O. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Senior researcher of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
| Даты | 1978- |
| Расширение инициалов личного имени | Denis Olegovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34240 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов |
| -- | 7868 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23698 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20220222 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1109/TPS.2021.3083327 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 667108 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.