Ultra-sensitive, sustainable, and selective electrochemical hydrazine detection by ALD-developed two-dimensional WO3 (Запись № 667248)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 02999nlm1a2200457 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030042104.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\38453 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\network\38364 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20220310a2018 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Ultra-sensitive, sustainable, and selective electrochemical hydrazine detection by ALD-developed two-dimensional WO3 |
Первые сведения об ответственности | Wei Zihan, Hai Zhenyin, M. K. Akbari [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 56 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | Wafer-scale two-dimensional (2D) WO3 films with different thicknesses of 0.78, 1.4, 3.6, and 6.5 nm were fabricated on Au-SiO2/Si substrates using an atomic layer deposition technique. Their surface morphologies and chemical components were examined by field-emission scanning electron microscopy, atomic force microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. Cyclic voltammetry, chronoamperometry and electrochemical impedance spectroscopy were utilized for the analysis of the electrochemical behavior of 2D WO3 films towards hydrazine detection under various conditions. The effect of the thickness of 2D WO3 on the electrochemical performance was also analyzed. Significant improvement in hydrazine sensing capabilities was obtained for monolayer 2D WO3 (0.78 nm), demonstrating a high sensitivity of 1.24 [mu]A μM−1 cm−2, a linear hydrazine concentration detection ranging from 0.2 to 2100 [mu]M, great long-term stability, excellent selectivity and the lowest limit of detection of 0.015 [mu]M reported to date, which provide a great potential method for materials fabrication in the development of high-performance hydrazine detection. |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | ChemElectroChem |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 5, iss. 2 |
Обозначение тома | [P. 266-272] |
Дата публикации | 2018 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | гидразины |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | поверхности |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | атомные слои |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | осаждение |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | морфология |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | подложки |
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Wei Zihan |
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Hai Zhenyin |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Akbari |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. K. |
Расширение инициалов личного имени | Mohammad Karbalaei |
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Hu Jie |
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Hyde Lachlan |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Verpoort |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | F. V. K. |
Дополнения к именам, кроме дат | Chemical Engineer |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, doctor of chemical Sciences |
Даты | 1963- |
Расширение инициалов личного имени | Frensis Valter Kornelius |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\35059 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Zhuiykov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. |
Расширение инициалов личного имени | Serge |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий |
Идентифицирующий признак | (2017- ) |
-- | 8120 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23537 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20220310 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1002/celc.201700968 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 667248 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.