Low Cost Embedded Copper Mesh Based on Cracked Template for Highly Durability Transparent EMI Shielding Films (Запись № 667815)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 03262nlm1a2200553 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030042127.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\39026 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\network\34432 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20220425a2022 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Low Cost Embedded Copper Mesh Based on Cracked Template for Highly Durability Transparent EMI Shielding Films |
Первые сведения об ответственности | A. S. Voronin, Yu. V. Fadeev, M. O. Makeev [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 55 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | Embedded copper mesh coatings with low sheet resistance and high transparency were formed using a low-cost Cu seed mesh obtained with a magnetron sputtering on a cracked template, and subsequent operations electroplating and embedding in a photocurable resin layer. The influence of the mesh size on the optoelectric characteristics and the electromagnetic shielding efficiency in a wide frequency range is considered. In optimizing the coating properties, a shielding efficiency of 49.38 dB at a frequency of 1 GHz, with integral optical transparency in the visible range of 84.3%, was obtained. Embedded Cu meshes have been shown to be highly bending stable and have excellent adhesion strength. The combination of properties and economic costs for the formation of coatings indicates their high prospects for practical use in shielding transparent objects, such as windows and computer monitors. |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Materials |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 15, iss. 4 |
Обозначение тома | [1449, 17 p.] |
Дата публикации | 2022 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | transparent electromagnetic interference (EMI) shielding films |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | cracked template |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | electroplating |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | photocurable resin |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | embedded mesh |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | durability |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | прозрачные пленки |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | гальванизм |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Voronin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. S. |
Расширение инициалов личного имени | Anton Sergeevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Fadeev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | Yu. V. |
Расширение инициалов личного имени | Yurii |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Makeev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. O. |
Расширение инициалов личного имени | Mstislav Olegovich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Mikhalev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. A. |
Расширение инициалов личного имени | Pavel Alekseevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Osipkov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. S. |
Расширение инициалов личного имени | Alexey Sergeevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Provatorov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. S. |
Расширение инициалов личного имени | Alexander Sergeevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Ryzhenko |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. S. |
Расширение инициалов личного имени | Dmitriy Sergeevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Yurkov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | G. Yu. |
Расширение инициалов личного имени | Gleb Yurjevich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Simunin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | M. M. |
Расширение инициалов личного имени | Mikhail Maksimovich |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Karpova |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. V. |
Расширение инициалов личного имени | Darina Valerjevna |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Lukyanenko |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. V. |
Расширение инициалов личного имени | Anna Vitaljevna |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Kokh |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. |
Расширение инициалов личного имени | Diete |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Bainov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. D. |
Дополнения к именам, кроме дат | Specialist in the field of plasma technologies |
-- | Researcher of the Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
Даты | 1978- |
Расширение инициалов личного имени | Dashi Dambaevich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34161 |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
-- | Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга |
-- | 7866 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23561 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20220425 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.3390/ma15041449 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 667815 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.