A universal substrate for the nanoscale investigation of two-dimensional materials (Запись № 669469)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 04142nlm1a2200517 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030042224.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\40709
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\40131
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20230517a2022 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие A universal substrate for the nanoscale investigation of two-dimensional materials
Первые сведения об ответственности Tran Tuan Hoang, R. D. Rodriguez (Rodriges) Contreras, D. L. Cheshev [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 72 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Since discovering two-dimensional materials, there has been a great interest in exploring, understanding, and taking advantage of their unique properties. Si/SiO2 is one of the most used substrates for the deposition and characterization of 2D materials due to its availability and optical contrast. This work goes beyond the conventional substrate and introduces highly-ordered pyrolytic graphite (HOPG) as universal support for investigating two-dimensional materials due to several unique properties such as chemical and temperature stability, intrinsic high flatness, reusability, electrical conductivity, ease of use, availability, and enhanced adhesion of two-dimensional materials. We demonstrate this by analyzing several 2D materials with advanced atomic force microscopy methods, Raman and photoluminescence spectroscopy with hyperspectral imaging, and scanning electron microscopy with elementary analysis imaging. The strong adhesion to HOPG allowed the instant deposition of different two-dimensional materials GaSe, MoS2, Zn2In2S5, talc, and h-BN. This feat is hard to accomplish on the conventional SiO2 substrate without polymer-assisted transfer. Moreover, this strong interaction can strain 2D materials deposited on HOPG, giving localized changes in reactivity, optical, and electronic properties. This effect is explored for selective Ag deposition on strained regions of 2D materials to activate photocatalytic reactions.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Applied Surface Science
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 604
Обозначение тома [154585, 10 p.]
Дата публикации 2022
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин highly-oriented pyrolytic graphite
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин graphene substrate
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин 2D materials
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин straintronics
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин nanoscale characterization
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин пиролитический графит
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин графеновые материалы
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин стрейнтроника
701 #0 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Tran Tuan Hoang
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of nuclear technologies
-- engineer of Tomsk Polytechnic University
Даты 1993-
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\47572
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Rodriguez (Rodriges) Contreras
Часть имени, кроме начального элемента ввода R. D.
Дополнения к именам, кроме дат Venezuelan physicist, doctor of science
-- Professor of Tomsk Polytechnic University
Даты 1982-
Расширение инициалов личного имени Raul David
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\39942
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Cheshev
Часть имени, кроме начального элемента ввода D. L.
Дополнения к именам, кроме дат Specialist in the field of material science
-- Engineer of Tomsk Polytechnic University
Даты 2000-
Расширение инициалов личного имени Dmitry Leonidovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\47385
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Villa Pineda
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. E.
Дополнения к именам, кроме дат chemical engineer
-- Engineer of Tomsk Polytechnic University
Даты 1986-
Расширение инициалов личного имени Nelson Enrrique
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\47266
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Aslam
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. A.
Расширение инициалов личного имени Muhammad Awais
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Pesic
Часть имени, кроме начального элемента ввода J.
Расширение инициалов личного имени Jelena
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Matkovic
Часть имени, кроме начального элемента ввода A.
Расширение инициалов личного имени Aleksandar
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Sheremet
Часть имени, кроме начального элемента ввода E. S.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University
Даты 1988-
Расширение инициалов личного имени Evgeniya Sergeevna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\40027
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий
Идентифицирующий признак (2017- )
-- 8120
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23537
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20230517
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.154585
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 669469
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.