Physical mechanisms of the influence of γ-ray surface treatment on the characteristics of close AuNi/n-n+-GaN Schottky contacts (Запись № 669559)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03089nlm1a2200373 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030042227.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\40811
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\39668
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20230627a2022 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Physical mechanisms of the influence of γ-ray surface treatment on the characteristics of close AuNi/n-n+-GaN Schottky contacts
Первые сведения об ответственности N. A. Torkhov, A. V. Gradoboev, V. Budnaev [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 63 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The results obtained here suggest that low-dose 60Co γ-irradiation (Dγ∼ 140 Gy) has a complex effect on close AuNi/n-n+-GaN{0001} Schottky contacts. This manifests in the disappearance of current steps in the initial section of the forward current-voltage curve, improvement in the average values of the ideality factor n, a decrease in the average values of the true Schottky barrier height ϕbn in the middle section and an increase in series resistance RS and enhancement of the inhomogeneous metal-semiconductor contact series resistance effect in the final section. In all cases, the observed changes are sustainable. A combination of the Zur-McGill-Smith close Schottky contact defect model, the inhomogeneous contact model and the radiation-induced defect formation model provides an explanation for the physical mechanisms of changes observed in electrophysical and instrumental characteristics after γ-irradiation. Such mechanisms are associated with changes in the electrophysical nature of GaN structural defects (dislocations and interface states) and degradation of the homogeneity of contact conductivity. This paper shows that the low-temperature anomaly also manifests itself in close AuNi/n-n+-GaN Schottky contacts subjected to γ-irradiation.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Semiconductor Science and Technology
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 37, iss. 10
Обозначение тома [105005, 18 p.]
Дата публикации 2022
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Torkhov
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. A.
Расширение инициалов личного имени Nikolay Aleksandrovich
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Gradoboev
Часть имени, кроме начального элемента ввода A. V.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Yurga technological Institute of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1952-
Расширение инициалов личного имени Aleksandr Vasilyevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34242
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Budnaev
Часть имени, кроме начального элемента ввода V.
Расширение инициалов личного имени Vadim
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Ivonin
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. V.
Расширение инициалов личного имени Ivan Varfolomeevich
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Novikov
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. A.
Расширение инициалов личного имени Vadim Aleksandrovich
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Инженерная школа ядерных технологий
-- Отделение экспериментальной физики
-- 7865
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23549
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20230627
Правила каталогизации RCR
856 40 - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1088/1361-6641/ac7d71
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 669559
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.