Highly selective deposition of CVD diamond on si wafers by using a combined technique of photolithography and ion etching / V. V. Okhotnikov, S. A. Linnik, A. V. Gaydaychuk

Основной Автор-лицо: Okhotnikov, V. V., physicist, engineer of Tomsk Polytechnic University, 1992-, Vitaly VladimirovichАльтернативный автор-лицо: Linnik, S. A., physicist, Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University, 1985-, Stepan Andreevich;Gaydaychuk, A. V., physicist, Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University, 1984-, Alexander ValerievichКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт физики высоких технологий (ИФВТ), Лаборатория № 1Язык: английский.Страна: Россия.Тематика: труды учёных ТПУ | электронный ресурс | осаждение | алмазы | фотолитография | ионное травление | CVD diamond catings | glow discharge plasma | selective deposition | structure Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.