Role of Crystallographic Anisotropy in the Formation of Surface Layers of Single NiTi Crystals after Ion-Plasma Alloying / T. M. Poletika [et al.]

Уровень набора: (RuTPU)RU\TPU\network\4816, AIP Conference ProceedingsАльтернативный автор-лицо: Poletika, T. M.;Meisner, L. L.;Girsova, S. L.;Meisner, S. N.;Shulepov, I. A., physicist, Engineer-designer of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences, 1954-, Ivan AnisimovichКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Центр измерений свойств материалов (ЦИСМ)Язык: английский.Резюме или реферат: The structure of the surface and near-surface layers of single crystals of NiTi, differently oriented relative to the direction of ion beam treatment was investigated. The role of the crystallographic orientation in formation of structure of surface layers after ion-plasma alloying was revealed. It was found that the orientation effects of selective sputtering and channeling determine the thickness of the oxide and amorphous layers, the depth of penetration of ions and impurities, the distribution of Ni with depth..Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [References: 7 tit.].Аудитория: .Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | анизотропия | поверхностные слои | кристаллы | легирование | монокристаллы | ионные пучки Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

[References: 7 tit.]

The structure of the surface and near-surface layers of single crystals of NiTi, differently oriented relative to the direction of ion beam treatment was investigated. The role of the crystallographic orientation in formation of structure of surface layers after ion-plasma alloying was revealed. It was found that the orientation effects of selective sputtering and channeling determine the thickness of the oxide and amorphous layers, the depth of penetration of ions and impurities, the distribution of Ni with depth.

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.