Degradation of Nitride Coatings in Low-Pressure Gas Discharge Plasma / Yu. F. Ivanov [et al.]

Уровень набора: (RuTPU)RU\TPU\network\4816, AIP Conference ProceedingsАльтернативный автор-лицо: Ivanov, Yu. F., physicist, Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences, 1955-, Yuriy Fedorovich;Shugurov, V., Vladimir;Krysina, O., Olga;Petrikova, E., Elizaveta;Tolkachev, O. S., Chemical Engineer, technician of Tomsk Polytechnic University, 1990-, Oleg SergeevichКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт физики высоких технологий (ИФВТ), Кафедра наноматериалов и нанотехнологий (НМНТ)Язык: английский.Резюме или реферат: The paper provides research data on the defect structure, mechanical characteristics, and tribological properties of commercially pure VT1-0 titanium exposed to surface modification on a COMPLEX laboratory electron-ion plasma setup which allows nitriding, coating deposition, and etching in low-pressure gas discharge plasma in a single vacuum cycle. It is shown that preliminary plasma nitriding forms a columnar Ti[2]N phase in VT1-0 titanium and that subsequent TiN deposition results in a thin nanocrystalline TiN layer. When the coating-substrate system is etched, the coating fails and the tribological properties of the material degrade greatly..Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [References: 8 tit.].Аудитория: .Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | деградация | нитридные покрытия | газы | низкие давления | gas discharges | transition | tribology | chemical compounds | nanomaterials | газоразрядная плазма Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

[References: 8 tit.]

The paper provides research data on the defect structure, mechanical characteristics, and tribological properties of commercially pure VT1-0 titanium exposed to surface modification on a COMPLEX laboratory electron-ion plasma setup which allows nitriding, coating deposition, and etching in low-pressure gas discharge plasma in a single vacuum cycle. It is shown that preliminary plasma nitriding forms a columnar Ti[2]N phase in VT1-0 titanium and that subsequent TiN deposition results in a thin nanocrystalline TiN layer. When the coating-substrate system is etched, the coating fails and the tribological properties of the material degrade greatly.

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.