Physical nature of size effects in TiAlNiAu/GaN ohmic contacts to AlGaN/GaN heteroepitaxial structures / N. A. Torkhov, A. V. Gradoboev, K. N. Orlova, A. S. Toropov

Уровень набора: Semiconductor Science and TechnologyАльтернативный автор-лицо: Torkhov, N. A., Nikolay Aleksandrovich;Gradoboev, A. V., physicist, Professor of Yurga technological Institute of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences, 1952-, Aleksandr Vasilyevich;Orlova, K. N., physicist, Associate Professor of Yurga technological Institute of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences, 1985-, Kseniya Nikolaevna;Toropov, A. S., Aleksandr SergeevichКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Инженерная школа ядерных технологий, Отделение экспериментальной физикиЯзык: английский.Резюме или реферат: The size effect observed in TiAlNiAu/GaN ohmic contacts (OCs) makes itself evident in the dependence of their relative electrical characteristics RSH, RSK, ? and geometrical parameter LT on the LTLM test line width Wk. The paper explores the geometry of relief (topography) irregularities and their interface conductivity, indicating the great significance of the fractal geometry for the description of the electrophysical and device characteristics. The regularities discovered can be of great practical importance in terms of OC development and optimization for micro-/nanoelectronics demands..Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [References: 37 tit.].Аудитория: .Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

[References: 37 tit.]

The size effect observed in TiAlNiAu/GaN ohmic contacts (OCs) makes itself evident in the dependence of their relative electrical characteristics RSH, RSK, ? and geometrical parameter LT on the LTLM test line width Wk. The paper explores the geometry of relief (topography) irregularities and their interface conductivity, indicating the great significance of the fractal geometry for the description of the electrophysical and device characteristics. The regularities discovered can be of great practical importance in terms of OC development and optimization for micro-/nanoelectronics demands.

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.