TY  - ELEC
AU  - Grenaderov, A. S.
AU  - Soloviev, A. A.
AU  - Oskomov, K. V.
AU  - Sypchenko, V. S.
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
TI  - Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
KW  - электронный ресурс
KW  - труды учёных ТПУ
KW  - a-C:H:SiOx films
KW  - Plasma CVD
KW  - спектроскопия
KW  - смещение
KW  - FTIR spectroscopy
KW  - Substrate bias
N2  - [References: 37 tit.]
UR  - https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.06.019
ER  -