TY  - ELEC
AU  - Grenaderov, A. S.
AU  - Soloviev (Solovyev), A. A.
AU  - Oskomov, K. V.
AU  - Rabotkin, S. V.
AU  - Elgin, Yu. I.
AU  - Sypchenko, V. S.
AU  - Ivanova, N. M.
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
TI  - Effect of substrate bias and substrate/plasma generator distance on properties of a-C:H:SiOx films synthesized by PACVD
KW  - электронный ресурс
KW  - труды учёных ТПУ
KW  - A-C:H:SiOx films
KW  - PACVD
KW  - substrate bias
KW  - raman spectroscopy
KW  - Fourier transform infrared spectroscopy
KW  - wettability
KW  - пленки
KW  - рамановская спектроскопия
KW  - инфракрасная спектроскопия
KW  - смачиваемость
KW  - подложки
N2  - [References: 35 tit.]
UR  - https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.11.005
ER  -