TY  - ELEC
AU  - Grenadyorov, A. S.
AU  - Oskirko, V. O.
AU  - Solovjev, A. A.
AU  - Semenov, V. A.
AU  - Rabotkin, S. V.
AU  - Oskomov, K. V.
AU  - Sypchenko, V. S.
ED  - Национальный исследовательский Томский политехнический университет
TI  - Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C:H:SiOx coatings
KW  - электронный ресурс
KW  - труды учёных ТПУ
KW  - plasma-assisted chemical vapor deposition
KW  - polyphenyl methylsiloxane
KW  - a-C:H:SiOx coating
KW  - hardness
KW  - wear resistance
KW  - optical emission spectroscopy
KW  - покрытия
KW  - твердость
KW  - износостойкость
KW  - оптическая спектроскопия
KW  - химическое осаждение
N2  - [References: 36 tit.]
UR  - https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.110982
ER  -