Перейти к основному содержанию
НТБ ТПУ
Ваша корзина пуста.
Корзина
Подборки
Общие подборки
для 1 курса алгебра
Просмотреть все
Ваши подборки
Авторизуйтесь, чтобы создавать свои подборки
Языки
Русский
English
Личный кабинет
Ваши файлы cookie
История поиска
Поиск в каталоге по:
Каталог библиотеки
Заглавие
Автор
Тематика
ISBN
ISSN
Серия
Шифр хранения
Поиск по ключевым словам
Расширенный поиск
Авторитетные записи
Облако меток
Библиотеки
Личный кабинет
Номер чит. билета или имя пользователя:
Пароль:
Главная
Расширенный поиск
Результаты поиска для 'au:Voronina E. D.'
Уточните Ваш поиск
Доступность
Ограничить записями с доступными экземплярами
Авторы
Bleykher (Bleicher),...
Grudinin, V. A.
Kashkarov, E. B.
Sidelev, D. V.
Voronina, E. D.
Рубрики
coating
coating deposition
copper oxide
CrAlN coating
duplex treatment
high-rate deposition
magnetron sputtering
metallic mode
plasma nitriding
radiofrequency induc...
radiofrequency induc...
RF-ICP source
substrate bias
thin films
индуктивно-связанная...
плазменное азотирова...
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
Больше
Показать меньше
Найдено 3 результатов.
Сортировать
Сортировать по:
Релевантность
Популярность (от большей к меньшей)
Популярность (от меньшей к большей)
Автор (по алфавиту)
Автор (возвратно по алфавиту)
Шифр хранения (от 0-9 к A-Z,А-Я)
Шифр хранения (от Я-А,Z-A к 9-0)
Дата публикации: от более поздней к более ранней
Дата публикации: от более ранней к более поздней
Дата поступления: от более ранней к более поздней
Дата поступления: от более поздней к более ранней
Заглавие (по алфавиту)
Заглавие (возвратно по алфавиту)
Снять подсветку
Подсветить
Выбрать всё
Очистить всё
Выбрать заглавия:
Добавить в корзину
Добавить в подборку
Новая подборка
Заказать
Результаты
1.
Duplex Treatment of AISI 420 Steel by RF-ICP Nitriding and CrAlN Coating Deposition: The Role of Nitriding Duration
/ D. V. Sidelev, E. D. Voronina, E. B. Kashkarov
Уровень набора:
Coatings
Доступность:
:
Добавить в подборку
Добавить в корзину
(удалить)
2.
High-rate magnetron deposition of CuOx films in the metallic mode enhanced by radiofrequency inductively coupled plasma source
/ D. V. Sidelev, E. D. Voronina, V. A. Grudinin
Уровень набора:
Vacuum
Доступность:
:
Добавить в подборку
Добавить в корзину
(удалить)
3.
Magnetron deposition of copper oxide coatings in a metallic mode enhanced by RF-ICP source: A role of substrate biasing
/ D. V. Sidelev, E. D. Voronina, G. A. Bleykher (Bleicher)
Уровень набора:
Vacuum
Доступность:
:
Добавить в подборку
Добавить в корзину
(удалить)