Найдено 3 результатов.

Результаты
	1.	The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.]Уровень набора: VacuumДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	2.	Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets / G. A. Bleykher [et al.]Доступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	3.	The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.]Уровень набора: VacuumДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)

Уточните Ваш поиск