000 01817nla2a2200373 4500
001 227964
005 20231029205548.0
035 _a(RuTPU)RU\TPU\book\248412
035 _aRU\TPU\book\248411
090 _a227964
100 _a20121213d2012 k y0engy50 ba
101 0 _aeng
102 _aRU
105 _ay z 101zy
135 _adrcn ---uucaa
181 0 _ai
182 0 _ab
200 1 _aTechnological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings
_bЭлектронный ресурс
_fD. V. Sidelev
_gNational Research Tomsk Polytechnic University ; науч. рук. Y. N. Yurjev
203 _aТекст
_cэлектронный
215 _a1 файл (267 Кб)
225 1 _aSection VIII: Modern Physical Methods in Science, Engineering and Medicine
230 _aЭлектронные текстовые данные (1 файл : 267 Кб)
300 _aЗаглавие с титульного листа
320 _a[Библиогр.: с. 182 (6 назв.)]
337 _aAdobe Reader
463 1 _0(RuTPU)RU\TPU\book\247697
_t Modern technique and technologies MTT' 2012
_o Proceedings of the 18th international scientific and practical conference of students, post-graduates and young scientists
_fTomsk Polytechnic University (TPU)
_v[С. 181-182]
_d2012
610 1 _aтруды учёных ТПУ
610 1 _aэлектронный ресурс
700 1 _aSidelev
_bD. V.
_cphysicist
_cengineer of Tomsk Polytechnic University
_f1991-
_gDmitry Vladimirovich
_2stltpush
_3(RuTPU)RU\TPU\pers\34524
702 1 _aYurjev
_bY. N.
_4727
712 0 2 _aNational Research Tomsk Polytechnic University
801 2 _aRU
_b63413507
_c20160407
_gRCR
856 4 _uhttp://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/ENG/eng_084.pdf
942 _cCF