| 000 | 05312nlm1a2200529 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 646198 | ||
| 005 | 20231030040718.0 | ||
| 035 | _a(RuTPU)RU\TPU\network\11332 | ||
| 035 | _aRU\TPU\network\10100 | ||
| 090 | _a646198 | ||
| 100 | _a20160215a2014 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | _arus | |
| 102 | _aRU | ||
| 135 | _adrcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | _ai | |
| 182 | 0 | _ab | |
| 200 | 1 |
_aАнализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий _dThe analysis of magnetron sputtering systems possibilities for high-rate deposition of functional coatings _fГ. А. Блейхер, В. П. Кривобоков, А. В. Юрьева |
|
| 203 |
_aТекст _cэлектронный |
||
| 300 | _aЗаглавие с экрана | ||
| 320 | _a[Библиогр.: с. 108 (5 назв.)] | ||
| 330 | _aРазработана математическая модель тепловых процессов в мишени и эмиссии атомов с ее поверхности при работе импульсных магнетронных распылительных систем (МРС). С ее помощью выявлены параметры магнетронов (мощность, длительность импульсов), которые способны обеспечить возникновение испарения. Показана его роль в усилении эмиссии атомов с поверхности мишени. Благодаря испарению количество вещества, удаляемого с поверхности мишени за один импульс тока, увеличивается более чем в 10 раз. Рассмотрена возможность существенного усиления эмиссии атомов с поверхности теплоизолированной мишени МРС, работающей с импульсно-периодическим источником питания. | ||
| 330 | _aThe mathematical model, which describes the thermal processes in a target and atomic emission from its surface when using pulsed magnetron sputtering systems, is developed The magnetron parameters (power, pulse duration) which are able to provide occurrence of evaporation are revealed. Its role in intensification of atomic emission is shown. Due to evaporation the amount of substance removed from the target surface at a current pulse is increased by more than 10 times. The possibility of substantial intensification of atomic emission from the surface of heat insulated target of the magnetron sputtering systems with repetitively pulsed power sources is considered. | ||
| 333 | _aРежим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 |
_tИзвестия вузов. Физика _oнаучный журнал _fНациональный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) _d1957- |
||
| 463 |
_tТ. 57, № 10/3 _v[С. 104-108] _d2014 |
||
| 510 | 1 |
_aThe analysis of magnetron sputtering systems possibilities for high-rate deposition of functional coatings _zeng |
|
| 610 | 1 | _aэлектронный ресурс | |
| 610 | 1 | _aтруды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | _aмагнетроны | |
| 610 | 1 | _aраспылительные системы | |
| 610 | 1 | _aэмиссия | |
| 610 | 1 | _aатомы | |
| 610 | 1 | _aраспыление | |
| 610 | 1 | _aпокрытия | |
| 610 | 1 | _aосаждение | |
| 610 | 1 | _amagnetron sputtering system | |
| 610 | 1 | _aatomic emission | |
| 610 | 1 | _aevaporation | |
| 610 | 1 | _asputtering | |
| 610 | 1 | _ahigh-rate coating deposition | |
| 700 | 1 |
_aБлейхер _bГ. А. _cфизик _cпрофессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук _f1961- _gГалина Алексеевна _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\pers\28948 |
|
| 701 | 1 |
_aКривобоков _bВ. П. _cфизик _cпрофессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук _f1948- _gВалерий Павлович _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\pers\21971 |
|
| 701 | 1 |
_aЮрьева _bА. В. _cспециалист в области водородной энергетики и плазменных технологий _cассистент Томского политехнического университета _f1983- _gАлена Викторовна _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\pers\30232 |
|
| 712 | 0 | 2 |
_aНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) _bФизико-технический институт (ФТИ) _bКафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ) _h2048 _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\col\18735 |
| 801 | 2 |
_aRU _b63413507 _c20160215 _gRCR |
|
| 856 | 4 | _uhttp://elibrary.ru/item.asp?id=22980209 | |
| 942 | _cCF | ||