000 02091nlm1a2200409 4500
001 652991
005 20231030041203.0
035 _a(RuTPU)RU\TPU\network\18362
035 _aRU\TPU\network\18358
090 _a652991
100 _a20170202a2016 k y0engy50 ba
101 0 _aeng
135 _adrcn ---uucaa
181 0 _ai
182 0 _ab
200 1 _aEffect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
_fY. Musil [et al.]
203 _aText
_celectronic
300 _aTitle screen
320 _a[References: p. 44-45 (16 tit.)]
333 _aРежим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
461 _tVacuum
_d1951-
463 _tVol. 133
_v[P. 43–45]
_d2016
610 1 _aэлектронный ресурс
610 1 _aтруды учёных ТПУ
610 1 _aмагнетронное распыление
610 1 _aзащитные покрытия
610 1 _aAl-Si-N
701 1 _aMusil
_bY.
_cphysicist
_cLeading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
_f1934-
_gYindrikh
_2stltpush
_3(RuTPU)RU\TPU\pers\36957
701 1 _aJavdosnak
_bD.
701 1 _aCerstvy
_bR.
_gRadomir
701 1 _aHaviar
_bS.
701 1 _aRemnev
_bG. E.
_cphysicist
_cProfessor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
_f1948-
_gGennady Efimovich
_2stltpush
_3(RuTPU)RU\TPU\pers\31500
701 1 _aUglov
_bV. V.
_cPhysicist
_cLeading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
_f1954-
_gVladimir Vasilievich
_2stltpush
_3(RuTPU)RU\TPU\pers\36737
712 0 2 _aНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
_bИнститут физики высоких технологий (ИФВТ)
_bЛаборатория № 1
_h6378
_2stltpush
_3(RuTPU)RU\TPU\col\19035
801 2 _aRU
_b63413507
_c20170206
_gRCR
856 4 _uhttp://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014
942 _cCF