| 000 | 02809nlm1a2200421 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 654140 | ||
| 005 | 20231030041247.0 | ||
| 035 | _a(RuTPU)RU\TPU\network\19667 | ||
| 090 | _a654140 | ||
| 100 | _a20170413a2017 k y0engy50 ba | ||
| 101 | 0 | _aeng | |
| 102 | _aUS | ||
| 135 | _adrcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | _ai | |
| 182 | 0 | _ab | |
| 200 | 1 |
_aProperties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method _fV. V. An, V. M. Pogrebenkov, A. N. Zakharov |
|
| 203 |
_aText _celectronic |
||
| 300 | _aTitle screen | ||
| 320 | _a[References: 9 tit.] | ||
| 330 | _aThis article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm. | ||
| 333 | _aРежим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 |
_tInorganic Materials: Applied Research _d2010- |
||
| 463 |
_tVol. 8, iss. 1 _v[P. 166-171] _d2017 |
||
| 610 | 1 | _aэлектронный ресурс | |
| 610 | 1 | _aтруды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | _aтонкопленочные изделия | |
| 610 | 1 | _aнаноструктуризация | |
| 610 | 1 | _aмишени | |
| 610 | 1 | _aвольфрам | |
| 610 | 1 | _aсульфид меди | |
| 700 | 1 |
_aAn _bV. V. _cchemist _cResearcher of Tomsk Polytechnic University, candidate of technical sciences _f1972- _gVladimir Vilorievich _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\pers\33866 |
|
| 701 | 1 |
_aPogrebenkov _bV. M. _cChemical Engineer _cProfessor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences _f1954- _gValery Matveevich _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\pers\31924 |
|
| 701 | 1 |
_aZakharov _bA. N. _gAleksandr Nikolaevich |
|
| 712 | 0 | 2 |
_aНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) _bИнститут физики высоких технологий (ИФВТ) _bКафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ) _h7617 _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\col\21253 |
| 712 | 0 | 2 |
_aНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) _bИнститут физики высоких технологий (ИФВТ) _bКафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН) _h93 _2stltpush _3(RuTPU)RU\TPU\col\18694 |
| 801 | 2 |
_aRU _b63413507 _c20170413 _gRCR |
|
| 856 | 4 | _uhttp://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X | |
| 942 | _cCF | ||