Technological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings
20121213d2012 k y0engy50 ba
- Заглавие с титульного листа
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
- Заглавие с титульного листа
труды учёных ТПУ
электронный ресурс