Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
20181022a2018 k y0engy50 ba
- Title screen
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
a-C:H:SiOx films
Plasma CVD
спектроскопия
смещение
FTIR spectroscopy
смещение
Substrate bias
- Title screen
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
a-C:H:SiOx films
Plasma CVD
спектроскопия
смещение
FTIR spectroscopy
смещение
Substrate bias