Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method (Запись № 658549)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03735nlm1a2200433 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030041556.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\26455 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20181022a2018 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method |
| Первые сведения об ответственности | A. S. Grenaderov [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 37 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | A series of a-C:H:SiOx films was deposited on polished silicon and glass substrates by plasma-assisted chemical vapor deposition combined with pulsed bipolar substrate bias from mixtures of argon and polyphenylmethylsiloxane vapors. Different Ar pressures and substrate bias voltages were applied for the synthesis of a-C:H:SiOx films having different mechanical properties. Detailed characterization of the mechanical properties of a-C:H:SiOx films was made using the nanoindentation. Hardness and elastic modulus were used for the evaluation of the endurance capability (H/E) and resistance to plastic deformation (H3/E2). The structural properties of the deposited films were analyzed by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and Raman spectroscopy. It was shown that the Ar pressure and substrate bias variation can change the film properties and the growth rate and these changes are not linear. So, depending upon application, deposition conditions are to be optimized. In all of the examined coatings, increase of Ar pressure and amplitude of negative pulse of substrate bias lead to improvement in mechanical properties. According to the results of FTIR and Raman spectroscopy; this improvement is due to an increase in the sp3 bonded carbon content and decrease of hydrogen content in the films. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Surface and Coatings Technology |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 349 |
| Обозначение тома | [P. 547-555] |
| Дата публикации | 2018 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | a-C:H:SiOx films |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | Plasma CVD |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | спектроскопия |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | смещение |
| -- | FTIR spectroscopy |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | смещение |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | Substrate bias |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Grenaderov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. S. |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Sergeevich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Soloviev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. A. |
| Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of hydrogen energy |
| -- | Associate Professor of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
| Даты | 1977- |
| Расширение инициалов личного имени | Andrey Aleksandrovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30863 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Oskomov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | K. V. |
| Расширение инициалов личного имени | Konstantin Vladimirovich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sypchenko |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. S. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Associate Scientist of Tomsk Polytechnic University, assistant |
| Даты | 1987- |
| Расширение инициалов личного имени | Vladimir Sergeevich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33791 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга |
| -- | 7866 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23561 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Отделение экспериментальной физики |
| -- | 7865 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23549 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20181022 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.06.019 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 658549 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.