High-Frequensy Short-Pulsed Metal Plasma-Immersion Ion Implantion Or Deposition Using Filtered DC Vacuum-ARC Plasma (Запись № 597220)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 01995nam1a2200277 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030033722.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\tpu\20407 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\tpu\20406 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20111216d2007 k |0engy50 ba |
| 101 1# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 102 ## - Страна публикации или производства | |
| Страна публикации | |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | High-Frequensy Short-Pulsed Metal Plasma-Immersion Ion Implantion Or Deposition Using Filtered DC Vacuum-ARC Plasma |
| Первые сведения об ответственности | A. I. Ryabchikov [et al.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | A new approach to the development of advanced coating deposition and ion implantation method including an application of filtered dc metal plasma and high-frequency short-pulsed negative bias voltage with a duty factor in the range of 10-99% are considered. The ion energy spectrum for different negative bias potential pulse durations (120-1100ns) was measured. The chart of various methods of ion beam and plasma material treatment using high-frequency short pulse metal plasma immersion ion implantation or deposition depending on bias pulse duty factor and amplitude for Cu plasma is presented. The ion assisted coating deposition has been examined depending on samples conductivity and thickness, plasma concentration, pulse repetition rate, amplitude, and duty factor. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Surface and Coatings Technology |
| Дата публикации | 2004- |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 201, № 15 |
| Обозначение тома | P. 6523-6525 |
| Дата публикации | 2007 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| -- | physicist |
| Даты | 1950- |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Ilyich |
| -- | TPU |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30912 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. A. |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Stepanov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. B. |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Usov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | Y. P. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Electrical engineer, Doctor of Technical Sciences |
| Даты | 1937- |
| Расширение инициалов личного имени | Yuri Petrovich |
| -- | TPU |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\28977 |
| 801 #0 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20011210 |
| Правила каталогизации | PSBO |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20131010 |
| Правила каталогизации | PSBO |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 597220 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Books |
Нет доступных единиц.