Plasma generation in a low-pressure hollow-cathode non-self-sustained glow discharge (Запись № 602481)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 01924nam1a2200277 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030033957.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\tpu\28348 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\tpu\28347 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20160427a2013 k y0rusy50 ca |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | русский |
| 102 ## - Страна публикации или производства | |
| Страна публикации | Россия |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Plasma generation in a low-pressure hollow-cathode non-self-sustained glow discharge |
| Первые сведения об ответственности | I. V. Lopatin [et al.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | Research on a hollow-cathode non-self-sustained glow discharge demonstrates the feasibility of discharge operation at pressures from 0.1 Pa. Depending on experimental conditions, the discharge operating voltage can reach ~50 V, which is much lower than that of a self-sustained glow discharge in the same electrode system. The discharge current can range up to 30 A. The working gas is Ar, N2, and N-based gas mixtures. Probe measurements of the discharge plasma show that the electron temperature varies between 1.5 and 7 eV, depending on the pressure of gas and its kind, and the plasma density can reach 1011 cm−3 at 15-A currents. Nitriding in the discharge plasma at 600°C for 2 h made it possible to increase the hardness of Ti (VT1-0) 3.5 times and that of 12Cr18Ni10Ti three times, with a modified layer depth of 35 µm. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 17, № 2-3 |
| Обозначение тома | P. 117-125 |
| Дата публикации | 2013 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Lopatin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. V. |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Akhmadeev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | Y. K. |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Koval |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | N. N. |
| Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of electronics |
| -- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
| Даты | 1948- |
| Расширение инициалов личного имени | Nikolay Nikolaevich |
| -- | TPU |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34748 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Schanin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. M. |
| 801 #1 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20160427 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20160427 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 602481 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Books |
Нет доступных единиц.