Development of New Ion and Plasma Surface Modification Methods (Запись № 640295)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03906nla2a2200433 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030040349.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\4841 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\4831 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20150414a2015 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические | |
| Кодированные данные о монографическом текстовом документе | y z 100zy |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Development of New Ion and Plasma Surface Modification Methods |
| Первые сведения об ответственности | A. I. Ryabchikov, D. O. Sivin, I. B. Stepanov |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 225 1# - Серия | |
| Основное заглавие серии | Plasma, Microwave, Ion, Electron and Isotope Technologies |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | The review is devoted to the analysis of the present state-of-the-art and development trends of the new methods and equipment being developed in Tomsk Polytechnic University (TPU), for DC vacuum arc-based ion and plasma materials processing. The features and advantages are demonstrated for the method of high-concentration implantation with compensation of surface ion sputtering by metal plasma deposition, the method of metal plasma deposition under repetitively – pulsed ion mixing with ion beams and plasma flow formed in the "Raduga-5" source, and the method of coating deposition and ion implantation, including an application of the filtered DC metal plasma source and high-frequency short-pulsed negative bias voltage with a duty factor in the range 10–99 %. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 #1 - Уровень набора | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\4598 |
| Заглавие | Advanced Materials Research : Radiation and nuclear techniques in material science |
| Сведения, относящиеся к заглавию | Scientific Journal |
| 463 #1 - Уровень физической единицы | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\4600 |
| Заглавие | Vol. 1084 : Physical-Technical Problems of Nuclear Science, Energy Generation, and Power Industry (PTPAI -2014) |
| Сведения, относящиеся к заглавию | The VIth International Conference, June 5-7, 2014, Tomsk, Russia |
| -- | [proceedings] |
| Первые сведения об ответственности | National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) |
| Обозначение тома | [P. 221-224] |
| Дата публикации | 2015 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | металлы |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | плазма |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | смещения |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | поверхности |
| 700 #1 - Имя лица – первичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| -- | physicist |
| Даты | 1950- |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Ilyich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30912 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sivin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. O. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Senior researcher of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
| Даты | 1978- |
| Расширение инициалов личного имени | Denis Olegovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34240 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Stepanov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. B. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Head of the laboratory of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
| Даты | 1968- |
| Расширение инициалов личного имени | Igor Borisovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34218 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
| Структурное подразделение | Физико-технический институт (ФТИ) |
| -- | Лаборатория № 22 |
| -- | 6469 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\19225 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
| Структурное подразделение | Физико-технический институт (ФТИ) |
| -- | Центр измерений свойств материалов (ЦИСМ) |
| -- | 6684 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\19361 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
| Структурное подразделение | Физико-технический институт (ФТИ) |
| -- | Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ) |
| -- | 138 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\18726 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20161228 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.1084.221 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 640295 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.