Influence of Surface Treatment of Copper Substrates by Titanium Ions on Structure and Thermomechanical Properties of Nanocomposite Coatings on the Basis of Si-Al-N (Запись № 640703)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03016nla2a2200421 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040403.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\5275
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\5269
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20150424a2014 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Influence of Surface Treatment of Copper Substrates by Titanium Ions on Structure and Thermomechanical Properties of Nanocomposite Coatings on the Basis of Si-Al-N
Первые сведения об ответственности V. P. Sergeev [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
225 1# - Серия
Основное заглавие серии Chemistry and Physics of Materials Surface
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Processing of copper substrates by Ti ions was carried out using "KVANT-03MI" equipment by means of a vacuum-arc ionic source with the titanium cathode. By X-ray and SEM methods it was established that after ionization in the surface layer of substrate the intermetallides of Cu-Ti system form. There is the CuTi3 preferred phase in surface layer of substrate depending on time of processing by Ti ions. The mechanism of formation of observable net structure of surface layer by sputtering of copper atoms by Ti ions the subsequent deposition and their crystallization in the form of microislets of CuTi3 intermetallide on surface of a copper substrate have been suggested.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 #0 - Уровень набора
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\4598
Заглавие Advanced Materials Research : Advanced materials, synthesis, development and application
Сведения, относящиеся к заглавию Scientific Journal
463 #0 - Уровень физической единицы
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\4601
Заглавие Vol. 880 : Prospects of Fundamental Sciences Development (PFSD-2013)
Сведения, относящиеся к заглавию The Xth International Conference, April 23-26, 2013, Tomsk, Russia
-- [proceedings]
Обозначение тома [P. 184-189]
Дата публикации 2014
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин нанокомпозитные покрытия
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин теплозащитные покрытия
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин термомеханические свойства
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин структуры
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Sergeev
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. P.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of materials science
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, doctor of technical Sciences
Даты 1949-
Расширение инициалов личного имени Viktor Petrovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\32730
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Fedorischeva
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. V.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Neufeld
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. V.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Kalashnikov
Часть имени, кроме начального элемента ввода M. P.
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Институт физики высоких технологий (ИФВТ)
-- Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
-- 2087
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\18687
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20161228
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.880.184
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 640703
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.