Formation of heavily doped semiconductor layers by pulsed ion beam treatmen (Запись № 645131)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 01944nlm1a2200349 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040642.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\10215
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\10212
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20151210a1997 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Formation of heavily doped semiconductor layers by pulsed ion beam treatmen
Первые сведения об ответственности R. M. Bayazitov [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: p. 38 (12 tit.)]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The formation of heavily doped Si and GaAs layers using implantation and powerful pulsed ion beams has been investigated. The influence of the depth distribution of energy released by the ions on the temperature profile and the electrically active impurity distribution in Si and GaAs is analyzed. It is shown that as a consequence of the simultaneous action of impurity diffusion processes normal to the surface and decomposition of GaAs at the surface, the heavily doped (8 × 1019cm−3) layers are formed in the subsurface region (0.1-0.5 μm).
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
Сведения, относящиеся к заглавию Scientific Journal
Дата публикации 1984-
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 122, iss. 1
Обозначение тома [P. 35-38]
Дата публикации 1997
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Bayazitov
Часть имени, кроме начального элемента ввода R. M.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Zakirzyanova
Часть имени, кроме начального элемента ввода L. Kh.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Khaibullin
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. B.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Remnev
Часть имени, кроме начального элемента ввода G. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Gennady Efimovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31500
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20151210
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1016/S0168-583X(96)00637-4
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 645131
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.