Carbon saturation of silicon target under the action of pulsed high-intensity ion beam (Запись № 647029)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02870nla2a2200445 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040748.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\12166
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\12164
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160323a2016 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drgn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Carbon saturation of silicon target under the action of pulsed high-intensity ion beam
Первые сведения об ответственности N. E. Aktaev, G. E. Remnev
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 9 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The action of the pulsed high-intensity ion (carbon) beam on the silicon target is investigated by means of the theoretical model. The forming of the carbon concentration profile in depth of the silicon sample is modelled. It is argued, that there are two ways of the profile forming: short-pulsed ion (carbon) implantation and diffusion of the carbon atoms adsorbed on the silicon surface. It is shown, that the carbon atoms adsorbed on the silicon surface and diffused into the silicon target play the main role in the concentration profile forming.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 #0 - Уровень набора
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\2008
Заглавие IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
463 #0 - Уровень физической единицы
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\11965
Заглавие Vol. 110 : Radiation-Thermal Effects and Processes in Inorganic Materials (RTEP2015)
Сведения, относящиеся к заглавию International Scientific Conference, 31 August to 10 September 2015, Tomsk, Russia
-- [proceedings]
Обозначение тома [012054, 9 p.]
Дата публикации 2016
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин насыщение
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин углерод
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин кремниевые мишени
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин импульсные пучки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин ионные пучки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин кремний
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин поверхности
700 #1 - Имя лица – первичная ответственность
Начальный элемент ввода Aktaev
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- research engineer of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1985-
Расширение инициалов личного имени Nurken Erbolatovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33514
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Remnev
Часть имени, кроме начального элемента ввода G. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Gennady Efimovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31500
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Институт физики высоких технологий (ИФВТ)
-- Лаборатория № 1
-- 6378
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\19035
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20161121
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1088/1757-899X/110/1/012054
856 40 - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18076
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 647029
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.