Nanocrystalline nitride coatings deposited by vacuum arc plasma-assisted method (Запись № 649088)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02821nlm2a2200457 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030040859.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\14249
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\13047
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20160620a2012 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Nanocrystalline nitride coatings deposited by vacuum arc plasma-assisted method
Первые сведения об ответственности O. V. Krysina [et al.]
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: p. 6 (8 tit.)]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания In the given work, experiments on research of formation of titanium nitride doped with copper (≤12 at %) produced by plasma-assisted vacuum arc deposition by evaporation of sintered Ti-Cu cathodes were carried out. It was revealed that Ti-Cu-N coatings have high hardness (≈40 GPa), high elastic recovery (≥50%), low friction coefficient (˜≈0.2) and high adhesion to a substrate compared with typical TiN coatings. By methods of transmission electron microscopy of thin foils and x-ray diffraction, it was showed that the coating crystallites consist of d-TiN with the average crystallite size of 10-30 nm and the sheath of doping elements (copper) with thickness of 2-3 monolayers is formed around of TiN crystallites.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 #1 - Уровень набора
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\3526
Заглавие Journal of Physics: Conference Series
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 370 : 14th Latin American Workshop on Plasma Physics (LAWPP 2011), 20–25 November 2011, Mar del Plata, Argentina
Обозначение тома [6 p.]
Дата публикации 2012
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин дуговой разряд
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин источники плазмы
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин пробой вакуума
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин лечение
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Krysina
Часть имени, кроме начального элемента ввода O. V.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Koval
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. N.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electronics
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Nikolay Nikolaevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34748
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Ivanov
Часть имени, кроме начального элемента ввода Yu. F.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1955-
Расширение инициалов личного имени Yuriy Fedorovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33559
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Timchenko
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. A.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Baumbach
Часть имени, кроме начального элемента ввода T.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Doyle
Часть имени, кроме начального элемента ввода S.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Slobodskyy
Часть имени, кроме начального элемента ввода T.
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Идентифицирующий признак (2009- )
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\15902
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20161020
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/370/1/012021
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 649088
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.