Nitriding of VT1-0 titanium in low-pressure non-self-maintained glow discharge with the use of different gas mixtures (Запись № 649129)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 02545nlm1a2200421 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030040901.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\14290 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | RU\TPU\network\14288 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20160622a2008 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Nitriding of VT1-0 titanium in low-pressure non-self-maintained glow discharge with the use of different gas mixtures |
Первые сведения об ответственности | Y. K. Akhmadeev [et al.] |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: p. 169-170 (11 tit.)] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | The results of nitriding of VT1-0 titanium in the plasma of non-self-maintained glow discharge with a hollow cathode are presented. A nitriding process has been implemented in different gas mixtures at low pressure and temperatures less than 650°C. It is shown that two-hour nitriding in a helium-nitrogen mixture leads to formation of a nitrided layer on the specimen’s surface. The obtained layer hardness of 14.5 GPa exceeds the hardness corresponding to pure nitrogen and argon-nitrogen nitriding by a factor of 2 and 1.5, respectively. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques |
Дата публикации | 2007- |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 2, № 1 |
Обозначение тома | [P. 166-170] |
Дата публикации | 2008 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | тлеющий разряд |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | низкое давление |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | газовые смеси |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | азатирование титана |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Akhmadeev |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | Y. K. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Ivanov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | Yu. F. |
Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
Даты | 1955- |
Расширение инициалов личного имени | Yuriy Fedorovich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33559 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Koval |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | N. N. |
Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of electronics |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
Даты | 1948- |
Расширение инициалов личного имени | Nikolay Nikolaevich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34748 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Lopatin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | I. V. |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Shchanin |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | P. M. |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
Идентифицирующий признак | (2009- ) |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\15902 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20161020 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | http://link.springer.com/article/10.1007/s11700-008-1026-9 |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 649129 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.