Modeling of carbon penetration into silicon structure under the action of pulsed high-intensity ion beam (Запись № 653050)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02865nlm0a2200445 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030041205.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\18435
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\17891
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20170206a2016 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические
Кодированные данные о монографическом текстовом документе y z 100zy
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Modeling of carbon penetration into silicon structure under the action of pulsed high-intensity ion beam
Первые сведения об ответственности N. E. Aktaev, G. E. Remnev
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: p. 57 (18 tit.)]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The action of high-intensity beam of carbon ions on a silicon sample is studied by means of a numerical modelling revealing formation of the in-depth carbon concentration profile in crystal lattice of silicon. We investigated three ways of the profile forming: short-pulsed ion implantation, recoil atoms mechanism and thermal diffusion of the carbon atoms adsorbed on the silicon surface. The latter is the result of high temperature gradient associated with the action of pulsed high-intensity ion beam. It is argued that the diffusion process plays the major role in forming of the concentration profile in the pre-surface layer of a silicon sample.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Surface and Coatings Technology
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 306, Pt. A : Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB 2015)
Обозначение тома [P. 54–57]
Сведения, относящиеся к заглавию The 19th International Conference, 25 November 2016
Дата публикации 2016
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин ионные пучки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин концентрация
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин имплантация
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин численное моделирование
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин задача Стефана
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин углерод
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин кремний
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин импульсные пучки
700 #1 - Имя лица – первичная ответственность
Начальный элемент ввода Aktaev
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- research engineer of Tomsk Polytechnic University, Candidate of physical and mathematical sciences
Даты 1985-
Расширение инициалов личного имени Nurken Erbolatovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33514
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Remnev
Часть имени, кроме начального элемента ввода G. E.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Gennady Efimovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\31500
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Структурное подразделение Институт физики высоких технологий (ИФВТ)
-- Лаборатория № 1
-- 6378
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\19035
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20170206
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.04.050
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 653050
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.