Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method (Запись № 654140)
[ простой вид ]
000 -Маркер | |
---|---|
Поле контроля фиксированной длины | 02809nlm1a2200421 4500 |
005 - Идентификатор версии | |
Поле контроля фиксированной длины | 20231030041247.0 |
035 ## - Другие системные номера | |
Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\19667 |
100 ## - Данные общей обработки | |
Данные общей обработки | 20170413a2017 k y0engy50 ba |
101 0# - Язык ресурса | |
Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
102 ## - Страна публикации или производства | |
Страна публикации | |
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
Код вида содержания | i |
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
Код средства доступа | electronic |
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
Основное заглавие | Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method |
Первые сведения об ответственности | V. V. An, V. M. Pogrebenkov, A. N. Zakharov |
203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
Вид содержания | |
Средство доступа | |
300 ## - Общие примечания | |
Текст примечания | Title screen |
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
Текст примечания | [References: 9 tit.] |
330 ## - Резюме или реферат | |
Текст примечания | This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm. |
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
Текст примечания | |
461 ## - Уровень набора | |
Заглавие | Inorganic Materials: Applied Research |
Дата публикации | 2010- |
463 ## - Уровень физической единицы | |
Заглавие | Vol. 8, iss. 1 |
Обозначение тома | [P. 166-171] |
Дата публикации | 2017 |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | электронный ресурс |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | труды учёных ТПУ |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | тонкопленочные изделия |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | наноструктуризация |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | мишени |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | вольфрам |
610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
Предметный термин | сульфид меди |
700 #1 - Имя лица – первичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | An |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. V. |
Дополнения к именам, кроме дат | chemist |
-- | Researcher of Tomsk Polytechnic University, candidate of technical sciences |
Даты | 1972- |
Расширение инициалов личного имени | Vladimir Vilorievich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33866 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Pogrebenkov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. M. |
Дополнения к именам, кроме дат | Chemical Engineer |
-- | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences |
Даты | 1954- |
Расширение инициалов личного имени | Valery Matveevich |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\31924 |
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Zakharov |
Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. N. |
Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Nikolaevich |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
Структурное подразделение | Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |
-- | Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ) |
-- | 7617 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\21253 |
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |
Структурное подразделение | Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |
-- | Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН) |
-- | 93 |
-- | stltpush |
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\18694 |
801 #2 - Источник записи | |
Страна | RU |
Организация | 63413507 |
Дата составления | 20170413 |
Правила каталогизации | RCR |
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
Универсальный идентификатор ресурса | http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X |
090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
Koha biblioitem number (autogenerated) | 654140 |
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.