Plasma-assisted deposition of a three-layer structure by vacuum and gas arcs (Запись № 662227)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 02415nlm1a2200349 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030041814.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\33362
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\tpu\28442
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20200603a1998 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Plasma-assisted deposition of a three-layer structure by vacuum and gas arcs
Первые сведения об ответственности D. P. Borisov [et al.]
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen.
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: p. 1684 (9 tit.)]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The durability and adhesion of thin coatings often depends on the structure and properties of the layer intermediate between the coating and the substrate, especially in the case where the layer and the substrate are highly different in microhardness. With a vacuum arc and a hot-cathode arc, a process has been arranged which involves cleaning of the surface, nitration of the article, and deposition of a coating. As a result, a three-layer composition has been produced which consists of a TiN layer of thickness up to 5 ?m and microhardness 20 GPa, an intermediate Fe4N layer of thickness up to 8 ?m and microhardness 7.5 GPa, and a nitrated layer of thickness up to 100 ?m with a gradually varying microhardness. With the TiN layer showing high adhesion, the coating has a durability three of four times greater than that of a coating produced with the use of a conventional technology.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие IEEE Transactions on Plasma Science
Дата публикации 1973-
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 26, № 6
Обозначение тома [P. 1680-1684]
Дата публикации 1998
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин соединения железа
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин плазма
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Borisov
Часть имени, кроме начального элемента ввода D. P.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Goncharenko
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. M.
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Koval
Часть имени, кроме начального элемента ввода N. N.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of electronics
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Nikolay Nikolaevich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\34748
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Schanin
Часть имени, кроме начального элемента ввода P. M.
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Идентифицирующий признак (2009- )
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\15902
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20200603
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса http://dx.doi.org/10.1109/27.747886
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 662227
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.