Effect of substrate bias and substrate/plasma generator distance on properties of a-C:H:SiOx films synthesized by PACVD (Запись № 664325)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 04660nlm0a2200577 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030041925.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\35509 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\32698 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20210409d2019 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 102 ## - Страна публикации или производства | |
| Страна публикации | |
| 105 ## - Поле кодированных данных: текстовые ресурсы, монографические | |
| Кодированные данные о монографическом текстовом документе | y z 100zy |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Effect of substrate bias and substrate/plasma generator distance on properties of a-C:H:SiOx films synthesized by PACVD |
| Первые сведения об ответственности | A. S. Grenaderov, A. A. Soloviev (Solovyev), K. V. Oskomov [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 35 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | In this paper the a-C:H:SiOx films were synthesized on silicon (100) and glass substrates by plasma-assisted chemical vapor deposition combined with pulsed bipolar substrate bias from mixtures of argon and polyphenylmethylsiloxane vapor. The process of a-C:H:SiOx films formation was investigated by controlling processing conditions such as amplitude of negative pulse of substrate bias and the distance between the substrate and plasma generator. Physico-mechanical characteristics of a-C:H:SiOx films were studied by the nanoindentation technique, atomic force microscopy, Fourier transform infrared and Raman spectroscopy. The contact angle and surface free energy were determined by the sessile drop method using couple liquids (water and glycerin). It was found that the films' properties are interrelated with the density of the ion current on the substrate, which was measured using a guarded planar probe. The obtained results show that film prepared at the smaller substrate/plasma generator distance and optimal substrate biasing has a higher content of sp3 bonded carbon and, accordingly, has higher hardness, Young's modulus and resistance to plastic deformation. At the same time the a-C:H:SiOx films show large hydrophobicity with a contact angle for water of about 91° and small total surface free energy of about 17.9 mN/m. |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Thin Solid Films |
| Дата публикации | 1967- |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 669 |
| Обозначение тома | [P. 253-261] |
| Дата публикации | 2019 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | A-C:H:SiOx films |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | PACVD |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | substrate bias |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | raman spectroscopy |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | Fourier transform infrared spectroscopy |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | wettability |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | пленки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | рамановская спектроскопия |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | инфракрасная спектроскопия |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | смачиваемость |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | подложки |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Grenaderov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. S. |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Sergeevich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Soloviev (Solovyev) |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. A. |
| Дополнения к именам, кроме дат | specialist in the field of hydrogen energy |
| -- | Associate Professor of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
| Даты | 1977- |
| Расширение инициалов личного имени | Andrey Aleksandrovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30863 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Oskomov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | K. V. |
| Расширение инициалов личного имени | Konstantin Vladimirovich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Rabotkin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. V. |
| Расширение инициалов личного имени | Sergey Viktorovich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Elgin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | Yu. I. |
| Расширение инициалов личного имени | Yury Igorevich |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sypchenko |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. S. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Associate Scientist of Tomsk Polytechnic University, assistant |
| Даты | 1987- |
| Расширение инициалов личного имени | Vladimir Sergeevich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\33791 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ivanova |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | N. M. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | senior assistant of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1991- |
| Расширение инициалов личного имени | Nina Mikhailovna |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34210 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга |
| -- | 7866 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23561 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Отделение экспериментальной физики |
| -- | 7865 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23549 |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов |
| Идентифицирующий признак | (2017- ) |
| -- | 8118 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23551 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20210409 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.11.005 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 664325 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.